化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小島隆司 , 西川裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-018189
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214587
特許番号：特許第3796560号
出願日： 1999年01月27日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (A)(i)下記式(1) 【化1】 (式中、Xは高分子化合物主鎖との結合部分を表し、R1は炭素数1〜8の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基、R2は水素原子又は炭素数1〜8の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基又は置換もしくは非置換のフェニル基を表す。Yはエーテル結合を含んでもよい炭素数1〜20の(n+1)価炭化水素基であり、mは0又は1を示す。なお、R1同士、R2同士、R1とR2、R1とY、R2とYは、互いに結合して環を形成していてもよい。nは1以上の自然数を示す。) で示される構造を有する架橋有機基を持つ多価アクリル酸系エステルに基づく単位、(ii)下記の架橋有機基を持つ単位(1b)、【化27】 (式中、R15は水素原子又はメチル基を示し、R1、R2、m、nは上記と同様である。) (iii)フェノール類、酸分解性保護基により保護されたフェノール類、又はカルボン酸もしくは酸分解性保護基により保護されたカルボン酸を持つ単量体に基づく単位をそれぞれ有する高分子化合物であって、酸により上記架橋が切断される高分子化合物、 (B)放射線の照射により酸を発生する感放射線酸発生剤、 (C)有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平3-241355
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-316888 出願人：ジェイエスアール株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-272803 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (6件)

特開平3-241355
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-316888 出願人：ジェイエスアール株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-272803 出願人：富士写真フイルム株式会社

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