特許
J-GLOBAL ID：201103097892022590

金属構造物の形成方法及び金属構造物形成用組成物並びに電子部品

発明者：
河口 和雄

河口 和雄 について

, 
宮本 秀俊

宮本 秀俊 について

, 
後藤 宏文

後藤 宏文 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 清路 ,  萩野 義昇 ,  谷口 直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-092628
公開番号（公開出願番号）：特開2011-026698
出願日： 2010年04月13日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】還元反応が十分に進行しない、形成される金属構造物の表面に欠陥を有する等の不良現象が抑制され、光沢に優れた金属構造物を形成する方法及びその形成方法に用いられる金属構造物形成用組成物並びに電子部品を提供する。【解決手段】本発明は、基材に、蟻酸の金属錯体(A)及び蟻酸アンモニウム(B)を含有する金属構造物形成用組成物を塗布し、塗布物を形成する工程と、得られた塗布物に対して、加熱及び/又は光照射し、金属からなる構造物を基材の表面に形成する工程とを、順次、備える金属構造物の形成方法である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
工程(1):基材に、下記の成分(A)及び成分(B)を含有する金属構造物形成用組成物を塗布し、塗布物を形成する工程と、 工程(2):前記塗布物に対して、加熱及び/又は光照射し、金属からなる構造物を、前記基材の表面に形成させる工程と、 を、順次、備えることを特徴とする金属構造物の形成方法。 成分(A):蟻酸の金属錯体。 成分(B):蟻酸アンモニウム。
IPC (6件)：
C23C 18/08 ,  H01B 13/00 ,  H01B 1/20 ,  H05K 3/10 ,  H05K 3/26 ,  C23C 18/14
FI (7件)：
C23C18/08 ,  H01B13/00 503C ,  H01B1/20 Z ,  H01B13/00 503D ,  H05K3/10 C ,  H05K3/26 A ,  C23C18/14
Fターム (29件)：
4K022AA02 ,  4K022AA13 ,  4K022AA41 ,  4K022AA42 ,  4K022AA43 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022DA06 ,  4K022DB07 ,  5E343AA18 ,  5E343AA33 ,  5E343BB24 ,  5E343BB34 ,  5E343BB45 ,  5E343BB48 ,  5E343BB72 ,  5E343DD03 ,  5E343DD68 ,  5E343EE02 ,  5E343ER33 ,  5E343ER43 ,  5E343ER44 ,  5E343ER45 ,  5E343GG06 ,  5G301DA22 ,  5G301DA42 ,  5G301DD02 ,  5G323CA03 ,  5G323CA05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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