特許
J-GLOBAL ID：201103099228485349

バッチ型原子層蒸着装置

発明者：
チェ,キュ-ジョン

チェ,キュ-ジョン について


出願人/特許権者：
チェ,キュ-ジョン

チェ,キュ-ジョン について


代理人 (1件)： ▲吉▼川 俊雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-545810
公開番号（公開出願番号）：特表2011-512031
出願日： 2009年02月10日
公開日（公表日）： 2011年04月14日
要約：
【課題】本発明は、複数の基板を一括的に処理し、優れたスループットを有しながらも、処理される各基板ごとに原子層蒸着工程を完璧に行うことができるバッチ型原子層蒸着装置に関するものである。【解決手段】本発明のバッチ型原子層蒸着装置は、内部に真空を形成できるチャンバと、前記チャンバ内に位置し、多数の基板が一定の間隔で離隔して積層される基板載置台と、前記基板載置台を上下方向に移動させる基板移動手段と、前記基板載置台に積層されている基板に対して平行な方向に気体を連続的に噴射する気体噴射手段と、前記チャンバの内部のうち前記気体噴射手段と対向する一側に設けられ、前記気体噴射手段によって噴射された気体を吸入・排出する気体排出手段とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部に真空を形成できるチャンバと、 前記チャンバ内に位置し、多数の基板が一定の間隔で離隔して積層される基板載置台と、 前記基板載置台を上下方向に移動させる基板移動手段と、 前記基板載置台に積層されている基板に対して平行な方向に気体を連続的に噴射する気体噴射手段と、 前記チャンバの内部のうち前記気体噴射手段と対向する一側に設けられ、前記気体噴射手段によって噴射された気体を吸入・排出する気体排出手段と、を含むバッチ型原子層蒸着装置。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ,  C23C 16/44
FI (2件)：
H01L21/31 B ,  C23C16/44 B
Fターム (24件)：
4K030AA18 ,  4K030AA24 ,  4K030BA42 ,  4K030EA03 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030GA02 ,  4K030GA04 ,  4K030GA06 ,  4K030GA12 ,  4K030KA12 ,  4K030KA24 ,  5F045AA03 ,  5F045AA04 ,  5F045AA06 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EE19 ,  5F045EF08 ,  5F045EF10 ,  5F045EG01 ,  5F045EG05
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)

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