特許

J-GLOBAL ID：201103099465399511

レジスト組成物

発明者： 山口 訓史 ,  金 淳信 ,  吉田 勲 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-209070
公開番号（公開出願番号）：特開2011-170315
出願日： 2010年09月17日
公開日（公表日）： 2011年09月01日
要約：

【課題】優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含有するレジスト組成物。[式(I)中、Z1は、C7〜C20アルキレン基、C3〜C202価の飽和環状炭化水素基、又は、C1〜C6アルキレン基とC3〜C202価の飽和環状炭化水素基とを組み合わせた基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07D 295/08

FI (5件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C07D295/08 Z

Fターム (25件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ75X ,  2H125AJ78X ,  2H125AJ79X ,  2H125AN11P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81 ,  4H006AB99

引用特許：

出願人引用 (5件)

• レジスト処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-227815   出願人：住友化学株式会社
• アミン化合物、化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-299558   出願人：信越化学工業株式会社
• アミン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-359331   出願人：信越化学工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-037622   出願人：住友化学株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-262469   出願人：富士写真フイルム株式会社