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J-GLOBAL ID:201202206419393007   整理番号:12A1710139

H2-O2触媒反応生成高エネルギーH2Oを用いてサファイア基板上に堆積したZnO薄膜の電気伝導特性の解析

Electronic properties of ZnO thin films grown on a-plane sapphire substrates using high-energy H2O generated by a catalytic reaction-Analysis using a two layer model-
著者 (6件):
資料名:
巻: 112  号: 265(CPM2012 93-111)  ページ: 1-5  発行年: 2012年10月19日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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白金ナノ粒子表面での水素と酸素の発熱反応を利用して高エネルギーH2Oを生成,アルキル亜鉛ガスと気相中で反応させ形成した高エネルギーZnOプリカーサを基板に供給,サファイアA面基板上にZnO結晶膜を成長させた。様々な厚さのZnO膜を成長させそれらの電気伝導特性を調べたところ,約2800nmまで膜厚の増加に伴い移動度は大きくなり500nm以下とそれ以上の膜厚で大きく電気伝導特性が異なり基板-膜界面に高密度の欠陥を有する縮退層の存在が窺われた。またSIMS測定から水素とボロンがそれぞれ1018cm-3and1017cm-3のオーダーで検出され,これら2つの不純物元素が外因性ドナーであると考えられた。ZnO膜を100nm程度の縮退層とその上の半導体層に分けた二層モデルを用いまた2ドナーモデルを用いてキャリア密度の温度特性を解析した。(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  薄膜成長技術・装置 

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