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J-GLOBAL ID：201202206549820535   整理番号：12A1729410

コヒーレント回折イメージングに基づくコヒーレントEUV散乱測定顕微鏡を用いたEUVマスクパターンの撮影

Imaging of EUV-mask patterns using coherent EUV scatterometry microscope based on coherent diffraction imaging

著者 (12件)： HARADA Tetsuo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  HARADA Tetsuo (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  NAKASUJI Masato (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  NAKASUJI Masato (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  KIMURA Teruhiko (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  KIMURA Teruhiko (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  NAGATA Yutaka (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  NAGATA Yutaka (RIKEN, Saitama, JPN) ,  WATANABE Takeo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  WATANABE Takeo (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  KINOSHITA Hiroo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  KINOSHITA Hiroo (JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名： LASTI Annual Report  (LASTI Annual Report)
巻： 13  ページ： 22-28  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： L4711A  ISSN： 2189-6909  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線(EUV)リソグラフィーによる大量生産では,欠陥の無いマスクの作製が重要な課題の一つである。マスク検査と計測のために,無レンズ型のコヒーレントEUV散乱測定顕微鏡(CMS)を開発し,NewSUBARUのビームラインBL-3に設置した。マスクの空間像はコヒーレント回折イメージングに基づいて逐次近似計算により再構成する。周期パターン,非周期パターン,位相構造を良好に再構成した。線/空間パターン内の欠陥を回折信号として検出した。また,欠陥の空間像を再構成した。

シソーラス用語： 光学顕微鏡法 ,  *フォトマスク ,  欠陥検査 ,  *フォトリソグラフィー ,  CCDカメラ ,  画像 ,  回路パターン形成 ,  干渉縞
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  空間像 ,  散乱測定 ,  スキャトロメトリ ,  *散乱測定顕微鏡法

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： コヒーレント ,  回折 ,  イメージング ,  EUV ,  散乱 ,  測定顕微鏡 ,  EUVマスク ,  撮影