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J-GLOBAL ID：201202238841404533   整理番号：12A1092621

ブロック共重合体の指向性自己組織化を用いた特徴増幅のための化学的ナノパターン化された基板の幾何学的制御

Geometric Control of Chemically Nano-patterned Substrates for Feature Multiplication Using Directed Self-Assembly of Block Copolymers

著者 (10件)： DELGADILLO Paulina A. Rincon (Univ. Wisconsin-Madison, WI) ,  DELGADILLO Paulina A. Rincon (IMEC, Leuven, BEL) ,  GRONHEID Roel (IMEC, Leuven, BEL) ,  THODE Christopher J. (Univ. Wisconsin-Madison, WI) ,  WU Hengpeng (AZ Electronic Materials, NJ) ,  CAO Yi (AZ Electronic Materials, NJ) ,  LIN Guanyang (AZ Electronic Materials, NJ) ,  SOMERVELL Mark (Tokyo Electron America, TX) ,  NAFUS Kathleen (Tokyo Electron America, TX) ,  NEALEY Paul F. (Univ. Wisconsin-Madison, WI)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 25  号： 1  ページ： 77-81  発行年： 2012年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ブロック共重合体(BCP)の指向性自己組織化を一定のパターンピッチで化学的にナノパターン化された基板上の交互型小片の次元を関数として検討した。化学パターンを有するブロック共重合体の配列は導波型小片の幅に依存していることが分かった。また,BCPの固有周期性(W/L₀)のこのパラメータの比率が約0.6の時に,高度の完成を達成した。最終的に,同じL₀の3バッチが異なる条件で優れた配列を示すので,BCPの配合がプロセス窓に影響することが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *指向性 ,  *自己組織化 ,  *パターン形成 ,  ポリスチレン ,  ポリメタクリル酸メチル ,  *ナノ構造 ,  架橋【高分子】 ,  リソグラフィー ,  プラズマ ,  プラズマエッチング ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： *ナノパターン形成 ,  酸素プラズマ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

引用文献 (11件)：

• 1 International Technology Roadmap for Semiconductors: Lithography, 2010
• 2 Rincon Delgadillo PA, Gronheid R, Thode CJ, Wu H, Cao Y, Neisser M, Somervell M, Nafus K, Nealey PF: Implementation of a chemo-epitaxy flow for directed self-assembly on 300mm wafer processing equipment, In preparation, 2012,
• 3 Bencher C, Smith J, Miaoa L, Caia C, Chena Y, Cheng JY, Sanders DP, Tjiob M, D. TH, Holmes S, Hinsberg WD: Self-assembly patterning for sub-15nm half-pitch: A transition from lab to fab, Proc. SPIE, 2011, 7970,
• 4 Rincon Delgadillo PA, Gronheid R, Thode CJ, Wu HW, Cao Y, Somervell M, Nafus K, Nealey PF: All track directed self-assembly of block copolymers: Process flow and origin of defects. Proc. SPIE 8323 (2012), 83230D.
• 5 Liu C-C, Ramirez Hernandez A, Yoshita H, Kang H, Han E, Padma Gopalan, dePablo JJ, Nealey PF: Free energy minimization for directed self-assembly of block copolymers with density multiplication. In preparation,

タイトルに関連する用語 (7件)： ブロック共重合体 ,  指向性 ,  自己組織化 ,  増幅 ,  化学 ,  ナノパターン ,  幾何学