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J-GLOBAL ID：201202251257342050   整理番号：12A1756769

三個の多層膜ミラーを持つ高倍率光学系を用いた波長での極端紫外リソグラフィーマスクの観察

At-Wavelength Extreme Ultraviolet Lithography Mask Observation Using a High-Magnification Objective with Three Multilayer Mirrors

著者 (8件)： TOYODA Mitsunori (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YAMASOE Kenjiro (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HATANO Tadashi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YANAGIHARA Mihiro (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TOKIMASA Akifumi (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  HARADA Tetsuo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  WATANABE Takeo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN) ,  KINOSHITA Hiroo (Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 5  号： 11  ページ： 112501.1-112501.3  発行年： 2012年11月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線(EUV)リソグラフィーマスクの波長での観察の必要性に動機づけされて,多層膜ミラー光学系を有する全視野EUV顕微鏡を開発した。この光学系は革新的光学設計に基づいており,拡大率は1400倍を超え,通常のCCDカメラを検出器に利用できる。さらに,光学系の軸外収差を補正することで数百μmの広い視野が得られ,マスク全体を迅速に検査できる。マスクのアト波長画像を示してこの新しい設計を実証した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 反射鏡 ,  光学系 ,  *フォトリソグラフィー ,  *顕微鏡 ,  CCDカメラ ,  *フォトマスク ,  顕微鏡観察 ,  欠陥検査 ,  半導体プロセス
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  *EUV顕微鏡 ,  多層膜鏡

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (21件)：

• GOLDBERG, K. A. J. Vac. Sci. Technol. B. 2006, 24, 2824
• LIANG, T. J. Vac. Sci. Technol. B. 2007, 25, 2098
• GULLIKSON, E. M. J. Vac. Sci. Technol. B. 2002, 20, 81
• LIN, J. Microelectron. Eng. 2008, 85, 922
• HAGA, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2003, 42, 3771

タイトルに関連する用語 (8件)： 多層膜ミラー ,  高倍率 ,  光学系 ,  波長 ,  極端紫外 ,  リソグラフィー ,  マスク ,  観察