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J-GLOBAL ID：201202255854050813   整理番号：12A0557992

リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用-樹脂構造の影響-

Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Nanoimprint Lithography-Effect of Monomer Structure-

著者 (3件)： 松川大作 (大阪府大 大学院工学研究科) ,  岡村晴之 (大阪府大 大学院工学研究科) ,  白井正充 (大阪府大 大学院工学研究科)
資料名： ネットワークポリマー  (Journal of Network Polymer, Japan)
巻： 33  号： 2  ページ： 74-79  発行年： 2012年03月10日 
JST資料番号： Z0934A  ISSN： 1342-0577  CODEN： NPORF2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 酸存在下で分解・可溶化できるリワーク型光硬化樹脂を合成し,UVインプリント材料へと応用した。光硬化した樹脂を分解・可溶化する方法により,分解生成物ポリマーの分子量測定から硬化樹脂の重合連鎖解析を行った。インプリント後の樹脂における体積収縮について,モノマー構造の観点から考察した。インプリント時の光硬化性および生成する光硬化樹脂の重合連鎖長についても検討し,樹脂の体積収縮との関係を考察した。樹脂の体積収縮はモノマーの光重合性および光硬化樹脂中におけるモノマーの重合連鎖長には依存せず,モノマーのメタクリル当量に依存した。体積収縮率と光重合性の観点から,アダマンチル部位を有するモノマーがもっとも良い材料の候補となった。(著者抄録)

シソーラス用語： *分解性高分子 ,  分子構造 ,  *光重合型樹脂 ,  押付成形 ,  *パターン形成 ,  紫外線 ,  *可溶化 ,  *光架橋 ,  分子量 ,  長さ ,  分子鎖 ,  光開始剤 ,  示差走査熱量測定 ,  陽子磁気共鳴 ,  FTIR分光法 ,  硬度 ,  サイズ排除クロマトグラフィー ,  *リソグラフィー ,  光酸発生剤 ,  紫外線照射
準シソーラス用語： PMMA ,  インプリントリソグラフィー ,  鉛筆硬度 ,  架橋構造 ,  光硬化性樹脂 ,  鎖長

分類 (2件)： アクリル樹脂  (YH07110K) ,  高分子の分解,劣化  (CG03010A)

物質索引 (6件)： α,α-ジメトキシ-α-フェニルアセトフェノン ,  ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨードニウム・トリフルオロメタンスルホナート ,  ビスメタクリル酸1,3-アダマンタンジイルビス[カルボニルオキシエチレンオキシ(1,1-エタンジイル)] ,  ビスメタクリル酸1,4-シクロヘキサンジイルビス[カルボニルオキシ(1,1-エタンジイル)オキシエチレン] ,  ビスメタクリル酸1,4-シクロヘキサンジイルビス[メチレンオキシ(1,1-エタンジイル)] ,  ビスメタクリル酸イソプロピリデンビス[(4,1-フェニレン)オキシエチレンオキシ(1,1-エタンジイル)]

引用文献 (6件)：

• 1)B. D. Gates, Q. Xu, M. Stewart, D. Ryan, C. G. Willson, and G. M. Whitesides, Chem. Rev. , 105, 1171 (2005).
• 2)D. Matsukawa, H. Wakayama, K. Mitsukura, H. Okamura, Y. Hirai, and M. Shirai, J. Mater. Chem. , 19, . 4085 (2009).
• 3)D. Matsukawa, H. Okamura, and M. Shirai, J. Mater. Chem. , 21, 10407 (2011).
• 4)M. Shirai, K. Mitsukura, and H. Okamura, Chem. Mater. , 20, 1971 (2008).
• 5)J. Brandrup, E. H. Immergut, and E. A. Grulke, Ed. , "Polymer Handbook, (4th ed.), " John Wiley and Sons (1999).

タイトルに関連する用語 (3件)： リワーク ,  収縮 ,  応用