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J-GLOBAL ID：201202269731632991   整理番号：12A0582031

イオン液体の真空電子噴霧により生成した正および負荷電液滴のビーム特性

Beam Characteristics of Positively and Negatively Charged Droplets Generated by Vacuum Electrospray of an Ionic Liquid

著者 (4件)： FUJIWARA Yukio (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  SAITO Naoaki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  NONAKA Hidehiko (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN) ,  ICHIMURA Shingo (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51  号： 3,Issue 1  ページ： 036701.1-036701.8  発行年： 2012年03月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二次イオン質量分析(SIMS)用の真空電子噴霧ビーム源を開発するために,真空噴霧した荷電液滴のビーム特性を負イオンモードおよび正イオンモードで調べた。4元アンモニウムイオン液体を試験した。実験結果は,正イオンモードと負イオンモード間には違いだけでなく類似性もあることを示した。ビーム電流は細管電圧そしてイオン液体の流動速度とともに大幅に変化した。過渡応答解析は,真空電子噴霧がより小さなm/z値(m/z≒10³)の荷電粒子とより大きなm/z値(m/z≒10⁵から10⁶)の荷電液滴からなる混合ビームを生成することを示した。荷電した液滴のm/z値が細管電圧の増大とともに減少することがわかった。3次元位置決定ステージを用いて,ビーム特性への細管位置の依存性を測定した。より大きなm/z値の荷電液滴の電流成分を最大にし,そしてより小さなm/z値の電流成分比を最小にするために,細管の中心軸を開口部のそれと整列することが非常に重要であることを証明した。高い整列精度が細管の先端と計数管電極間の小さなギャップ長さで要求されることがわかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *イオン液体 ,  *二次イオン質量分析 ,  *電子源 ,  アニオン ,  カチオン ,  真空 ,  *噴霧 ,  電流 ,  過渡応答 ,  *液滴
準シソーラス用語： 電子噴霧 ,  ビーム電流

分類 (1件)： 電子源,イオン源  (BD02020U)

引用文献 (54件)：

• 1) D. G. Castner: Nature 422 (2003) 129.
• 2) W. Vandervorst: Appl. Surf. Sci. 255 (2008) 805.
• 3) N. Winograd: Anal. Chem. 77 (2005) 142A.
• 4) D. Weibel, S. Wong, N. Lockyer, P. Blenkinsopp, R. Hill, and J. C. Vickerman: Anal. Chem. 75 (2003) 1754.
• 5) K. Iltgen, C. Bendel, A. Benninghoven, and E. Niehuis: J. Vac. Sci. Technol. A 15 (1997) 460.

タイトルに関連する用語 (6件)： イオン液体 ,  真空 ,  電子噴霧 ,  負荷電 ,  液滴 ,  ビーム