特許
J-GLOBAL ID：201203000041330938

ガラス基板のスクライブ方法

発明者：
蘇 宇航

蘇 宇航 について

, 
山本 幸司

山本 幸司 について


出願人/特許権者：
三星ダイヤモンド工業株式会社

三星ダイヤモンド工業株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-032307
公開番号（公開出願番号）：特開2012-171810
出願日： 2011年02月17日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：
【課題】強化ガラスに対して、安定して所望のスクライブ溝を形成できるようにする。【解決手段】このスクライブ方法は、圧縮応力を持たせた強化層を表面に有する強化ガラスをスクライブする方法であり、第1工程と、第2工程と、を含む。第1工程は、強化ガラスの表面に、強化層の厚みの1.14倍〜1.67倍の深さの初期亀裂を形成する。第2工程は、初期亀裂にレーザ光を照射して加熱するとともに、加熱された領域を冷却し、スクライブ予定ラインに沿って亀裂を進展させる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
圧縮応力を持たせた強化層を表面に有する強化ガラスをスクライブするガラス基板のス クライブ方法であって、 前記強化ガラスの表面に、強化層を除去して初期亀裂を形成する第1工程と、 前記初期亀裂にレーザ光を照射して加熱するとともに、加熱された領域を冷却し、スク ライブ予定ラインに沿って亀裂を進展させる第2工程と、 を含むガラス基板のスクライブ方法。
IPC (2件)：
C03B 33/09 ,  B23K 26/00
FI (3件)：
C03B33/09 ,  B23K26/00 D ,  B23K26/00 G
Fターム (7件)：
4E068AD01 ,  4E068AE01 ,  4E068CH08 ,  4E068DB13 ,  4G015FA06 ,  4G015FB01 ,  4G015FC14
引用特許：
審査官引用 (4件)
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