特許
J-GLOBAL ID:201203002348897008
レーザー誘起表面層を有する3次元構造体及びその製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
ポレール特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-190345
公開番号(公開出願番号):特開2012-045672
出願日: 2010年08月27日
公開日(公表日): 2012年03月08日
要約:
【課題】基板の表面に量子ドット又は量子細線として利用可能なナノメートルオーダの凸部を形成すること、及び、基板を構成する元素と異なる元素で構成されたナノメートルオーダの凸部を形成する。【解決手段】第一の元素を含む基板11の表面に、第二の元素を含む凸部形成物質を供給し、基板11の表面にレーザーを照射し、基板11の表面に、第二の元素を主成分とする複数個の凸部14、又は第一の元素及び第二の元素を含む複数個の凸部14をレーザーの波長以下の間隔21(頂点間距離)で形成する。第一の元素は、第二の元素と異なる元素であってもよい。レーザーは、ナノ秒パルスレーザーが望ましく、レーザーの照射条件は、2.0×103〜4.0×103mJ/m2/pulse、2〜20Hz、かつ、パルス数200〜20000pulsesが望ましい。【選択図】図4
請求項(抜粋):
第一の元素を含む基材の表面に、第二の元素を含む凸部形成物質を供給し前記基材の表面にレーザーを照射することにより、前記基材の表面に、前記第二の元素を主成分とする複数個の凸部、又は前記第一の元素及び前記第二の元素を含む複数個の凸部を前記レーザーの波長以下の頂点間距離で形成する方法であって、前記第二の元素は、前記第一の元素と同一の元素又は異なる元素であることを特徴とするレーザー誘起表面層を有する3次元構造体の製造方法。
IPC (3件):
B82B 3/00
, B82B 1/00
, B23K 26/00
FI (4件):
B82B3/00
, B82B1/00
, B23K26/00 N
, B23K26/00 G
Fターム (3件):
4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068DA09
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る