特許
J-GLOBAL ID:201203003906825830

磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (17件): 蔵田 昌俊 ,  高倉 成男 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  井関 守三 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-286353
公開番号(公開出願番号):特開2012-094894
出願日: 2011年12月27日
公開日(公表日): 2012年05月17日
要約:
【課題】記憶層にかかる漏れ磁界を可及的に低減することを可能にする。【解決手段】膜面に垂直方向の磁気異方性を有する強磁性層10と、強磁性層上に設けられた第1の非磁性層8と、第1の非磁性層上に設けられ、かつ膜面に垂直方向の磁気異方性を有するとともに前記強磁性層の磁化の向きと反平行の磁化を有し、かつ強磁性層の積層方向の膜厚の1/2.8以上1/1.5以下の膜厚を有する参照層6と、参照層上に設けられた第2の非磁性層8と、第2の非磁性層上に設けられ、膜面に垂直方向の磁気異方性を有しスピン偏極した電子の作用により磁化の方向が変化する記憶層2と、を備えている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
膜面に垂直方向の磁気異方性を有する強磁性層と、 前記強磁性層上に設けられた第1の非磁性層と、 前記第1の非磁性層上に設けられ、かつ膜面に垂直方向の磁気異方性を有するとともに前記強磁性層の磁化の向きと反平行の磁化を有し、かつ前記強磁性層の積層方向の膜厚の1/2.8以上1/1.5以下の膜厚を有する参照層と、 前記参照層上に設けられた第2の非磁性層と、 前記第2の非磁性層上に設けられ、膜面に垂直方向の磁気異方性を有しスピン偏極した電子の作用により磁化の方向が変化する記憶層と、 を備えていることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (4件):
H01L 27/105 ,  H01L 21/824 ,  H01L 29/82 ,  H01L 43/08
FI (3件):
H01L27/10 447 ,  H01L29/82 Z ,  H01L43/08 Z
Fターム (35件):
4M119AA10 ,  4M119CC05 ,  4M119DD06 ,  4M119DD09 ,  4M119DD17 ,  4M119DD33 ,  4M119DD45 ,  4M119EE23 ,  4M119EE27 ,  4M119FF17 ,  5F092AA15 ,  5F092AB08 ,  5F092AC08 ,  5F092AC12 ,  5F092AD03 ,  5F092AD23 ,  5F092AD25 ,  5F092BB23 ,  5F092BB24 ,  5F092BB31 ,  5F092BB35 ,  5F092BB36 ,  5F092BB43 ,  5F092BB44 ,  5F092BC04 ,  5F092BC07 ,  5F092BC32 ,  5F092BC33 ,  5F092BC39 ,  5F092BC46 ,  5F092BE12 ,  5F092BE13 ,  5F092BE21 ,  5F092BE27 ,  5F092GA03
引用特許:
審査官引用 (4件)
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