特許
J-GLOBAL ID:201203004239589258
感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (18件):
蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 勝村 紘
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-148310
公開番号(公開出願番号):特開2012-013807
出願日: 2010年06月29日
公開日(公表日): 2012年01月19日
要約:
【課題】感度、PEB温度依存性及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性組成物は、下記一般式(B-I)により表され、活性光線又は放射線の照射により分解して一般式HBAにより表される化合物を発生する第1化合物を含有している。【化1】【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記一般式(B-I)により表され、活性光線又は放射線の照射により分解して一般式HBAにより表される化合物を発生する第1化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性組成物。
IPC (5件):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, G03F 7/038
, H01L 21/027
, C08F 20/28
FI (5件):
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, G03F7/038 601
, H01L21/30 502R
, C08F20/28
Fターム (94件):
2H125AE03P
, 2H125AE04P
, 2H125AE05P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF27P
, 2H125AF29P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF39P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH11
, 2H125AH15
, 2H125AH16
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH24
, 2H125AH25
, 2H125AJ13X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ63X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM12P
, 2H125AM15P
, 2H125AM16P
, 2H125AM23P
, 2H125AM27P
, 2H125AM32P
, 2H125AM66P
, 2H125AM86P
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN57P
, 2H125AN63P
, 2H125AN67P
, 2H125AN86P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB08
, 2H125CB09
, 2H125CB12
, 2H125CB16
, 2H125CC01
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125CC17
, 2H125CD01P
, 2H125CD35
, 4J100AB02P
, 4J100AB07P
, 4J100AB07Q
, 4J100AB07R
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA02Q
, 4J100BA02R
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA40R
, 4J100BB18S
, 4J100BC03Q
, 4J100BC03S
, 4J100BC04R
, 4J100BC04S
, 4J100BC09P
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC43R
, 4J100BC44R
, 4J100BC53Q
, 4J100BC53R
, 4J100BC53S
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
引用特許:
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