特許
J-GLOBAL ID：200903042240400146

感エネルギー線酸発生組成物、酸の発生方法、および感エネルギー線硬化性組成物

発明者：
菅野 真樹

菅野 真樹 について

, 
對馬 希

對馬 希 について


出願人/特許権者：
東洋インキ製造株式会社

東洋インキ製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-212942
公開番号（公開出願番号）：特開2008-037980
出願日： 2006年08月04日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：
【課題】300nm以上の近紫外線の照射においても高い酸発生効率を示す、感エネルギー線酸発生組成物と該酸発生組成物からの酸の発生方法の提供、さらには硬化後の特性、特に優れた密着性を有する感エネルギー線酸硬化性組成物および硬化物の製造方法の提供にある。【解決手段】任意のカチオンとPF6-,SbF6-等のアニオンからなる感エネルギー線酸発生剤(A)と、下記一般式(2)で表記されるアミン化合物(B)とを含んでなる感エネルギー線酸発生組成物。一般式(2)(式中、Ar1、Ar2、Ar3は、アリール基、または複素環基を表す。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表記される感エネルギー線酸発生剤(A)と、下記一般式(2)で表記されるアミン化合物(B)とを含んでなる感エネルギー線酸発生組成物。 一般式(1)
IPC (4件)：
C09K 3/00 ,  C08G 59/68 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/038
FI (5件)：
C09K3/00 K ,  C08G59/68 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/038 503 ,  G03F7/004 501
Fターム (26件)：
2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BD03 ,  2H025BD23 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CA22 ,  2H025CA48 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB30 ,  2H025CC20 ,  4J036AA01 ,  4J036AJ09 ,  4J036GA20 ,  4J036GA22 ,  4J036GA24 ,  4J036GA26 ,  4J036GA29 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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