極端紫外光生成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：宇都宮正明 , 保坂延寿 , 渡部温 , 柳瀬睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-058026
公開番号（公開出願番号）：特開2012-169241
出願日： 2011年03月16日
公開日（公表日）： 2012年09月06日
要約：

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも1つのレーザビーム生成装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも1つのレーザビーム生成装置から出力される少なくとも1つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記少なくとも1つのレーザビームを前記所定の領域で集光させるレーザ集光光学系と、前記少なくとも1つのレーザビームの前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正する光学素子と、を備えてもよい。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

少なくとも1つのレーザビーム生成装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも1つのレーザビーム生成装置から出力される少なくとも1つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記少なくとも1つのレーザビームを前記所定の領域で集光させるレーザ集光光学系と、前記少なくとも1つのレーザビームの前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正する光学素子と、を備えるチャンバ装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531S

Fターム (9件)：

4C092AA06 , 4C092AB21 , 4C092AB22 , 4C092AC09 , 4C092BD05 , 4C092BD18 , 4C092BD19 , 5F046GC03 , 5F146GC11

引用特許：

審査官引用 (7件)

レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024731 出願人：株式会社日立製作所
レーザパルス制御方法と装置およびX線発生方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-073365 出願人：川崎重工業株式会社, 日本原子力研究所
EUV光の放射方法、および前記EUV光を用いた感応基板の露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-277964 出願人：国立大学法人大阪大学, 財団法人レーザー技術総合研究所

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