極端紫外光源装置及び極端紫外光の生成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人ウィルフォート国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-161556
公開番号（公開出願番号）：特開2010-003548
出願日： 2008年06月20日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：

【課題】本発明のEUV光源装置は、メインパルスレーザ光の照射前に、CW(QCWを含む)光をターゲットに照射することにより、ターゲットを蒸発させて適切な密度及び形状を有するターゲットに変化させる。【解決手段】ターゲット200には、最初に、CWレーザ光121が照射される。これにより、ターゲット200が加熱されて蒸発し、ガス状のターゲット210を得る。次に、ガス状ターゲット210にメインパルスレーザ光111が照射される。これにより、ガス状ターゲット210はプラズマ化してEUV光を放射する。メインパルスレーザ光の照射される照射点の直前で、ターゲット200を気化させてガス状にするため、効率よくメインパルスレーザ光を照射することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザ光をターゲット物質に照射してプラズマ化させることにより、極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、チャンバと、前記チャンバ内に前記ターゲット物質を供給するターゲット物質供給手段と、前記チャンバ内に供給される前記ターゲット物質に、連続光または疑似連続光として構成される第1レーザ光を照射して蒸発させるための第1レーザ光源と、加熱された前記ターゲット物質に第2レーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化させることにより極端紫外光を放射させるための第2レーザ光源と、を備える極端紫外光源装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531S

Fターム (5件)：

4C092AA06 , 4C092AA15 , 4C092AC09 , 4C092BD18 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (3件)

極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-261871 出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
米国特許出願公開第2006/0255298号明細書
国債公開第2003/96764号パンフレット

審査官引用 (9件)

レーザ生成プラズマに基づく短波長放射線の効率的な生成のための方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-072876 出願人：イクストリーメテクノロジースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
液滴供給方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-019893 出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
LPP型EUV光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-089287 出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社

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