特許
J-GLOBAL ID:201203008912806210
水処理方法及び水処理システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-051557
公開番号(公開出願番号):特開2012-187472
出願日: 2011年03月09日
公開日(公表日): 2012年10月04日
要約:
【課題】供給水に酸を添加することなく、または酸の添加量を最小限に止めながら、逆浸透膜でのシリカ系及び炭酸カルシウム系スケールの発生を同時に抑制することのできる水処理方法及び水処理システムを提供すること。【解決手段】シリカ及び硬度成分を含む供給水W1にスケール分散剤を添加する分散剤添加装置12と、スケール分散剤が添加された供給水W1を透過水W2と濃縮水W3とに分離する第1の逆浸透膜モジュール2と、第1の逆浸透膜モジュール2で分離した透過水を脱気処理する気体分離膜モジュールとを含み、前記第1の逆浸透膜モジュール2で分離した濃縮水W3のランゲリア指数を0.3以下、かつシリカ濃度を150mgSiO2/L以下に保って分離操作するように構成されている水処理システムである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
シリカ及び硬度成分を含む供給水を精製するための水処理方法であって、
供給水にスケール分散剤を添加する分散剤添加工程と、
スケール分散剤が添加された処理水を第1の逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1の逆浸透膜分離工程と、
第1の逆浸透膜分離工程の透過水を気体分離膜モジュールで脱気処理する脱気処理工程と、を含み、
逆浸透膜分離工程では、濃縮水のランゲリア指数を0.3以下、かつシリカ濃度を150mgSiO2/L以下に保って分離操作する、水処理方法。
IPC (15件):
C02F 1/44
, C02F 5/00
, C02F 5/14
, C02F 5/04
, C02F 5/08
, C02F 5/10
, B01D 61/02
, B01D 61/04
, B01D 61/12
, B01D 61/48
, C02F 1/469
, C02F 1/42
, B01D 61/00
, B01D 61/58
, C02F 1/20
FI (16件):
C02F1/44 D
, C02F5/00 620C
, C02F5/00 620B
, C02F5/14
, C02F5/04
, C02F5/08 F
, C02F5/10 620
, B01D61/02
, B01D61/04
, B01D61/12
, B01D61/48
, C02F1/46 103
, C02F1/42 B
, B01D61/00
, B01D61/58
, C02F1/20 A
Fターム (68件):
4D006GA03
, 4D006GA17
, 4D006GA32
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA47
, 4D006HA61
, 4D006HA71
, 4D006JA30C
, 4D006JA43Z
, 4D006JA44Z
, 4D006KA03
, 4D006KA53
, 4D006KA55
, 4D006KA56
, 4D006KA57
, 4D006KA72
, 4D006KB11
, 4D006KD30
, 4D006KE03Q
, 4D006KE04Q
, 4D006KE14Q
, 4D006KE15P
, 4D006KE15Q
, 4D006KE16P
, 4D006KE19P
, 4D006KE30P
, 4D006KE30Q
, 4D006MA01
, 4D006MA02
, 4D006MA03
, 4D006MA13
, 4D006MA14
, 4D006MC22
, 4D006PA01
, 4D006PB04
, 4D006PB05
, 4D006PB06
, 4D006PB08
, 4D006PB62
, 4D006PB64
, 4D025AA03
, 4D025AB02
, 4D025BA08
, 4D025BB04
, 4D025BB07
, 4D025DA01
, 4D025DA05
, 4D025DA06
, 4D037AA01
, 4D037AA05
, 4D037AA11
, 4D037AB11
, 4D037BA23
, 4D037CA03
, 4D037CA15
, 4D061DA02
, 4D061DA03
, 4D061DA08
, 4D061DB13
, 4D061EA09
, 4D061EB13
, 4D061EB37
, 4D061FA08
, 4D061FA09
, 4D061FA20
, 4D061GA07
引用特許:
審査官引用 (10件)
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特許第3187629号
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純水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-057510
出願人:三浦工業株式会社
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純水の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-055206
出願人:栗田工業株式会社
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一次純水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-323702
出願人:栗田工業株式会社
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特開平2-303593
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循環水系のスケール防止方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-377378
出願人:栗田工業株式会社
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造水装置、及び造水方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-017816
出願人:オルガノ株式会社
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水質改善方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-198620
出願人:株式会社神戸製鋼所
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水処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-047857
出願人:三浦工業株式会社
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水処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-047876
出願人:三浦工業株式会社
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