特許
J-GLOBAL ID：201203019155354708

形状計測方法およびそのシステム

発明者：
宍戸 千絵

宍戸 千絵 について

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田中 麻紀

田中 麻紀 について

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宮本 敦

宮本 敦 について

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浜松 玲

浜松 玲 について

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矢野 学

矢野 学 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-237315
公開番号（公開出願番号）：特開2012-088269
出願日： 2010年10月22日
公開日（公表日）： 2012年05月10日
要約：
【課題】モデルベース計測法は、予め作成した種々の断面形状に対するSEM信号波形のライブラリとのマッチングにより断面形状を推定することが可能であるが、従来のモデルベース計測法では、断面形状のモデル化が適切か否かを判断するための機能、あるいは、推定結果の確からしさを確認する機能が供されていなかった。【解決手段】モデルベース計測にて実パターンの計測を行うのに先立ち、ライブラリ波形間のマッチングにより解空間(予測解空間)を求め提示する。また、モデルベース計測による実パターンの計測後に、実波形とライブラリ波形とのマッチングにより解空間(実解空間)を求め提示する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電子線シミュレーションにより種々の断面形状に対応する計算波形群(ライブラリ)を作成し、 試料上に形成されたパターンを走査電子顕微鏡(SEM)で撮像し、 該撮像して得られた画像の実波形と前記作成したライブラリをマッチングして最も実波形と一致する計算波形を選択し、 該選択した計算波形に基づいて前記試料上に形成されたパターンの断面形状を表現する複数の形状パラメータを決定し、
IPC (1件)：
G01B 15/04
FI (1件)：
G01B15/04 K
Fターム (13件)：
2F067AA52 ,  2F067AA53 ,  2F067CC15 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067KK08 ,  2F067KK09 ,  2F067RR00 ,  2F067RR29 ,  2F067RR35 ,  2F067RR41 ,  2F067RR44
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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