特許
J-GLOBAL ID：201203019520707895
反応種供給装置および表面等処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人中部国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-149525
公開番号（公開出願番号）：特開2012-014927
出願日： 2010年06月30日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：
【目的】電極とワークとの間で放電が起き難くする。【解決手段】放電空間42Bとプラズマ出力口16との間に設けられたプラズマ流出通路の構成要素である個別通路81Bに関して、X部分81BX、Z部分81BZのX部分81BXXの接続部Mより放電空間側の部分81BZO、X部分81BXX、拡散器82B、スリット86等により主通路が構成され、Z方向部分81BZの接続部Mより放電空間とは反対側の部分81BZPにより分岐通路が構成される。アース板90は、分岐通路81BZPを塞ぐ状態で設けられる。分岐通路81BZPと主通路の部分81BZOとは同一直線上に位置するため、アース板90との間で放電が起き、ワークWとの間では起き難くすることができる。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
少なくとも一対の電極によって形成される放電空間に処理ガスを供給して、少なくとも、プラズマ内に生成された反応種を反応種出力口から被処理物に供給する反応種供給装置であって、
前記放電空間と前記反応種出力口との間に設けられた反応種流出通路と、
その反応種流出通路の前記反応種出力口から設定距離離間した部分に設けられたアース部材と
を含むことを特徴とする反応種供給装置。
IPC (3件)：
H05H 1/24
, B01J 19/08
, B08B 5/00
H05H1/24
, B01J19/08 E
, B08B5/00 Z
3B116AA01
, 3B116AA46
, 3B116AB01
, 3B116AB39
, 3B116AB44
, 3B116BB22
, 3B116BB32
, 3B116BB62
, 3B116BB89
, 4G075AA30
, 4G075BA06
, 4G075BC10
, 4G075BD14
, 4G075CA15
, 4G075EB43
, 4G075EC21
, 4G075ED13
