特許
J-GLOBAL ID:200903064491392952
プラズマ処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
渡辺 昇
, 原田 三十義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-102991
公開番号(公開出願番号):特開2006-286325
出願日: 2005年03月31日
公開日(公表日): 2006年10月19日
要約:
【課題】 処理ガスを放電空間に通して吹出し口から吹出すとともに、被処理物を前記放電空間に対し相対移動させながら前記吹出しガスに当てるプラズマ処理装置における処理能力を高める。【解決手段】 プラズマ処理装置1は、放電空間14を形成する一対の電極11,12を含むプラズマ生成ユニット10を備えている。 このプラズマ生成ユニット10が、被処理物90と対向すべき被処理物対向面170を有し、この被処理物対向面170に吹出し口16が開口されている。この被処理物対向面170における吹出し口16を挟んで被処理物移動方向の順方向側の部分171が、逆方向側の部分172より長い。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
処理ガスを放電空間に通して吹出し口から吹出すとともに、被処理物を前記放電空間に対し相対移動させながら前記吹出しガスに当てるプラズマ処理装置であって、
前記放電空間を形成する一対の電極を含むプラズマ生成ユニットを備え、
このプラズマ生成ユニットが、前記被処理物と対向すべき被処理物対向面を有し、この被処理物対向面に前記吹出し口が開口されるとともに、
この被処理物対向面における前記吹出し口を挟んで前記被処理物移動方向の順方向側の部分が、逆方向側の部分より前記移動方向に長いことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件):
H05H 1/24
, B08B 7/00
, H01L 21/304
FI (3件):
H05H1/24
, B08B7/00
, H01L21/304 645C
Fターム (4件):
3B116AA02
, 3B116AA46
, 3B116AB14
, 3B116BC01
引用特許:
出願人引用 (2件)
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表面処理装置および表面処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-043245
出願人:セイコーエプソン株式会社
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特開2004-3635394号公報
審査官引用 (8件)
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