特許
J-GLOBAL ID：201203021737272107
ALDシステムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-552032
公開番号（公開出願番号）：特表2012-519235
出願日： 2010年02月26日
公開日（公表日）： 2012年08月23日
要約：
デュアルチャンバ「塔」として構成されるガス蒸着システム(1000)は、一方が他方より垂直方向に上側である2つの反応チャンバアセンブリ(3000)を支持するためのフレーム(1140)を含む。各チャンバアセンブリ(3000)は、搭載ポートを通して単一の第4.5世代(GEN4.5)ガラスプレート基板を受容するようにサイズ決定される中空アセンブリ(3070)を包囲する、外壁アセンブリを含む。基板は、中空アセンブリ(3070)の内側で水平に配置され、チャンバアセンブリ(3000)は、中空アセンブリ(3070)の外部に配置され、基板の頂面を覆って実質的に水平に方向付けられた層状ガス流を生成するように構成される、取外し可能かつ清掃可能な三角形投入(3150)および排出(3250)プレナムを含む。
請求項（抜粋）：
1つ以上の基板上に薄膜層を堆積させる反応チャンバアセンブリ(3000、8100)であって、
実質的に対向する左側および右側外壁(3030、3040)ならびに実質的に対向する前面および背面外壁(3042、3044)に取り付けられる、実質的に対向する頂部および底部外壁(3010、3020)を備える、中空チャンバを取り囲む外壁アセンブリと、
該中空チャンバの中に1つ以上のガスおよび気相材料を送達するガス供給モジュールと、
該中空チャンバからガスおよび気相材料を除去する真空ポンプと
を備え、該反応チャンバアセンブリは、
該左側および右側外壁(3030)、(3040)のうちの一方を通って延在する投入長方形開口(3140)と、
該左側および右側外壁(3040)のうちの他方を通って延在する排出長方形開口(3130)であって、該投入長方形開口と該排出長方形開口とは、実質的に同一の開口寸法を有するとともに対向する、排出長方形開口(3130)と、
該外壁アセンブリの外部に配置され、該投入長方形開口を通して該中空チャンバの中に該1つ以上のガスおよび気相材料を送達するために、該ガス供給モジュールと流体的に連絡している投入プレナム(3150)と、
該外壁アセンブリの外部に配置され、該排出長方形開口を通して該中空チャンバからガスおよび気相材料を除去するために、該真空ポンプと流体的に連絡している排出プレナム(3250)と
をさらに備えることを特徴とする、反応チャンバアセンブリ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C23C16/455
, C23C16/44 E
, C23C16/44 J
4K030CA06
, 4K030CA17
, 4K030EA01
, 4K030EA11
, 4K030EA12
, 4K030FA10
, 4K030GA02
, 4K030GA12
, 4K030KA08
, 4K030KA09
, 4K030KA10
, 4K030KA46
, 4K030KA47
, 4K030LA18
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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