特許
J-GLOBAL ID：201203028860465399

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤

発明者：
瀬下 武広

瀬下 武広 について

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内海 義之

内海 義之 について

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道谷 和茂

道谷 和茂 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-108667
公開番号（公開出願番号）：特開2012-003249
出願日： 2011年05月13日
公開日（公表日）： 2012年01月05日
要約：
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12 ,  C07C 25/18 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R
Fターム (42件)：
2H125AF13P ,  2H125AF16P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF26P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AN02P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA28P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB99
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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