特許
J-GLOBAL ID:201203033696421796
円盤状の物品を処理するための装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-502851
公開番号(公開出願番号):特表2012-522391
出願日: 2010年03月25日
公開日(公表日): 2012年09月20日
要約:
【解決手段】開示されるのは、円盤状の物品を流体で処理するための装置であり、この装置は、円盤状の物品の上に流体を分配するための分配手段と、円盤状の物品を該円盤状の物品に垂直な軸Aを中心に保持する及び回転させるためのチャックとを含み、チャックは、ベース本体と、駆動リングと、円盤状の物品の縁に接触するための把持部材とを含み、把持部材は、円盤状の物品の中心に対して偏心して移動可能であり、把持部材の偏心移動は、駆動リングによって駆動され、駆動リングは、軸Aを中心にベース本体に対して回転可能であることによって把持部材を駆動するように、ベース本体に回転可能に取り付けられ、ベース本体に対する駆動リングの相対的回転移動は、ベース本体を保持するとともに駆動リングを回転させること、または駆動リングを保持するとともにベース本体を回転させることによって実行され、これによって、保持対象パーツ(駆動リングまたはベース本体)は、それぞれの保持対象パーツに触れることなく磁力によって保持される。【選択図】図1a
請求項(抜粋):
流体を用いて円盤状の物品を処理するための装置であって、
前記円盤状の物品の上に流体を分配するための分配手段と、
円盤状の物品に垂直な軸Aを中心に前記円盤状の物品を保持する及び回転させるためのチャックと、
を備え、前記チャックは、ベース本体と、駆動リングと、前記円盤状の物品の縁に接触するための把持部材とを含み、前記把持部材は、前記円盤状の物品の中心に対して偏心して移動可能であり、前記把持部材の前記偏心移動は、駆動リングによって駆動され、前記駆動リングは、前記軸Aを中心に前記ベース本体に対して回転可能であることによって前記把持部材を駆動するように、前記ベース本体に回転可能に取り付けられ、前記ベース本体に対する前記駆動リングの前記相対的回転移動は、前記ベース本体を保持するとともに前記駆動リングを回転させること、または前記駆動リングを保持するとともに前記ベース本体を回転させることによって実行され、これによって、前記保持対象パーツ(駆動リングまたはベース本体)は、前記それぞれの保持対象パーツに触れることなく磁力によって保持される、装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (5件):
5F031CA02
, 5F031HA25
, 5F031HA30
, 5F031HA48
, 5F031LA04
引用特許:
出願人引用 (10件)
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基板保持回転装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-267332
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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天井搬送装置及び天井搬送車
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-160189
出願人:神鋼電機株式会社
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基板処理装置および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-161607
出願人:住エレ・エスイーゼット株式会社
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基板処理方法および基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-083695
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板回転保持装置および回転式基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-239630
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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ウエハ状製品、特にシリコンウエハの処理装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-532845
出願人:エスイーゼット・セミコンダクター-イクイプメント・ツベヘーア・フュア・ジ・ハルブライターフェルティグング・ゲゼルシャフト・エムベーハー
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基板保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-291597
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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磁気的浮上回転処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-257304
出願人:国立大学法人新潟大学, 株式会社エムテーシー
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-058537
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特許第6485531号
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審査官引用 (8件)
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天井搬送装置及び天井搬送車
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-160189
出願人:神鋼電機株式会社
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基板処理装置および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-161607
出願人:住エレ・エスイーゼット株式会社
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基板保持回転装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-267332
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板回転保持装置および回転式基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-239630
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板保持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-291597
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板処理方法および基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-083695
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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磁気的浮上回転処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-257304
出願人:国立大学法人新潟大学, 株式会社エムテーシー
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ウエハ状製品、特にシリコンウエハの処理装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願平8-532845
出願人:エスイーゼット・セミコンダクター-イクイプメント・ツベヘーア・フュア・ジ・ハルブライターフェルティグング・ゲゼルシャフト・エムベーハー
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