特許
J-GLOBAL ID：201003099259848752

感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法

発明者：
松村 信司

松村 信司 について

, 
浅野 裕介

浅野 裕介 について

, 
成岡 岳彦

成岡 岳彦 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 清路 ,  萩野 義昇 ,  谷口 直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-305422
公開番号（公開出願番号）：特開2010-128376
出願日： 2008年11月28日
公開日（公表日）： 2010年06月10日
要約：
【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】本樹脂組成物は、式(1)で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂(A)と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂(B)と、酸発生剤(C)とを含む。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される繰り返し単位(A1)、及びフッ素原子を有する繰り返し単位(A2)を含有する樹脂(A)と、 酸解離性基を有する繰り返し単位(B1)を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂(B)と、 感放射線性酸発生剤(C)と、を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/28 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R
Fターム (54件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02S ,  4J100AB03S ,  4J100AB07S ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL26Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA05S ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA22P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC02R ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC26Q ,  4J100BC49S ,  4J100BC53S ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA02 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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