特許
J-GLOBAL ID：201203041088440870

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜

発明者：
山口 修平

山口 修平 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-034023
公開番号（公開出願番号）：特開2012-173438
出願日： 2011年02月18日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：
【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。【解決手段】(ア)樹脂(A)と、重合性基を有し、かつ活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含み、形成されるパターンがネガ型である、パターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(ア)樹脂(A)と、重合性基を有し、かつ活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含み、形成されるパターンがネガ型である、パターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (76件)：
2H125AC03 ,  2H125AC11 ,  2H125AC21 ,  2H125AC35 ,  2H125AC43 ,  2H125AC45 ,  2H125AC46 ,  2H125AC47 ,  2H125AE04P ,  2H125AE06P ,  2H125AE07P ,  2H125AE13P ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF33P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF52P ,  2H125AF53P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH05 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM30P ,  2H125AM43P ,  2H125AM66P ,  2H125AM91P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA02P ,  2H125BA22P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05
引用特許：
審査官引用 (6件)
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