特許
J-GLOBAL ID：201003091032060180

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤

発明者：
羽田 英夫

羽田 英夫 について

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内海 義之

内海 義之 について

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瀬下 武広

瀬下 武広 について

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川上 晃也

川上 晃也 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-291056
公開番号（公開出願番号）：特開2010-116353
出願日： 2008年11月13日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、式(b1-1)で表される化合物を含む酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物;式中、R1”〜R3”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも1つは式(b1-1-0)で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Xは炭素数3〜30の炭化水素基、Q2は単結合又はアルキレン基、pは1〜3の整数である。Wは炭素数2〜10のアルキレン基である。][化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (8件)：
C07C 309/09 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/10 ,  C08F 220/12 ,  C08F 220/28
FI (9件)：
C07C309/09 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12 ,  C07C309/10 ,  C08F220/12 ,  C08F220/28
Fターム (28件)：
2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006AB92 ,  4H006TN30 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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