特許
J-GLOBAL ID:201203042269701884
基材の処理方法、仮固定材および電子部品
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人SSINPAT
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-085407
公開番号(公開出願番号):特開2012-222105
出願日: 2011年04月07日
公開日(公表日): 2012年11月12日
要約:
【課題】低温で基材を支持体上に仮固定でき、かつ薬液に対する耐性を有する仮固定材、前記仮固定材を用いた基材の処理方法、および前記処理方法によって得られる電子部品を提供する。【解決手段】(1)低軟化点を有する非晶質体を含有する仮固定材を介して、支持体上に基材を仮固定する工程、(2)前記基材を加工および/または移動する工程、ならびに(3)前記仮固定材を加熱することにより、支持体から基材を剥離する工程をこの順で有する基材の処理方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(1)低軟化点を有する非晶質体を含有する仮固定材を介して、
支持体上に基材を仮固定する工程、
(2)前記基材を加工および/または移動する工程、ならびに
(3)前記仮固定材を加熱することにより、支持体から基材を剥離する工程
をこの順で有する基材の処理方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (8件):
5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031PA26
, 5F057CA13
, 5F057DA11
, 5F057EC02
, 5F057FA30
引用特許: