特許
J-GLOBAL ID：201203043466974562

パルス状レーザ微小堆積パターン形成

発明者：
リュー、 ビン

リュー、 ビン について

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フー、 ツェンドン

フー、 ツェンドン について

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村上 真

村上 真 について

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スー、 ジンジョウ

スー、 ジンジョウ について

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チェ、 ヨン

チェ、 ヨン について


出願人/特許権者：
イムラ アメリカ インコーポレイテッド

イムラ アメリカ インコーポレイテッド について


代理人 (3件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  原 裕子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-552067
公開番号（公開出願番号）：特表2012-519077
出願日： 2010年02月17日
公開日（公表日）： 2012年08月23日
要約：
パルス状レーザを用いて透明な基板上にパターンを形成する方法が開示される。様々な実施形態は、極短パルス状レーザ、レーザ波長に透明な基板、及びターゲット板を含む。レーザビームは、透明基板を介してターゲット表面に集光される。ターゲット材料は、レーザによって剥離され、対向する基板表面に堆積される。パターンは、例えばグレイスケールであり、ターゲットに対するレーザビームの走査によって形成される。レーザビーム走査速度及び走査線密度の変化によって、材料堆積を制御し、堆積したパターンの光学性質を変化させ、グレイスケールの色彩効果を生成する。いくつかの実施形態において、パターンは、製造工程の間にマイクロ電子デバイスの一部に形成するようにすることができる。いくつかの実施形態において、高繰り返し率ピコ秒及びナノ秒ソースは、パターンを形成するように構成される。
請求項（抜粋）：
媒体上にパターンを作成するパルス状レーザ堆積方法であって、前記媒体は、前記パルス状レーザの波長において実質的に透明であり、 パルス状レーザソースからパルス状レーザビームを生成するステップと、 前記パルス状レーザビームをターゲットに集光し、前記ターゲットは、前記パルス状ビーム及び前記ターゲットの相互作用に応じて放出物を生成するステップと、 前記媒体上に前記放出部の少なくとも一部を累積し、前記媒体上に材料堆積を形成するステップと、 前記材料堆積の厚さを制御し、前記媒体の領域の光学密度を変化させ、光学密度が変化する空間パターンを形成するステップと を含む方法。
IPC (4件)：
B23K 26/00 ,  B23K 26/08 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/10
FI (6件)：
B23K26/00 B ,  B23K26/00 M ,  B23K26/00 N ,  B23K26/08 B ,  H05K3/00 N ,  H05K3/10 C
Fターム (24件)：
4E068AB02 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA04 ,  4E068CA07 ,  4E068CA11 ,  4E068CB02 ,  4E068CE02 ,  4E068CG05 ,  4E068DB01 ,  4E068DB10 ,  4E068DB11 ,  4E068DB13 ,  5E343AA26 ,  5E343AA34 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB28 ,  5E343BB43 ,  5E343BB49 ,  5E343BB67 ,  5E343DD69 ,  5E343GG20
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)

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