特許
J-GLOBAL ID:201203045302428306

放射線治療装置制御装置、放射線治療装置制御装置の処理方法及びそのプログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 森 隆一郎 ,  志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  山崎 哲男 ,  松沼 泰史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-038226
公開番号(公開出願番号):特開2012-170767
出願日: 2011年02月24日
公開日(公表日): 2012年09月10日
要約:
【課題】マーカが埋め込まれた被写体へ放射線を照射して生成された放射線透視画像中のマーカの検出速度を上げることができる放射線治療装置制御装置を提供する。【解決手段】放射線透視画像中における、ある画素からマーカの線幅の半分以上の所定距離に位置する対向する2つの画素の各輝度と、の輝度差のうちの何れか一方の輝度差を、ある画素を通る複数の異なる方向について算出し、そのうちの最も大きい輝度差の情報を当該画素について特定して、当該輝度差の情報を放射線透視画像中の複数の画素について保持した画素毎輝度差情報を作成する。画素毎輝度差情報において輝度差が所定の閾値以上の画素のうちノイズと判定される画素を除去してマーカ候補となる画素を特定し、マーカ候補となる画素について、隣接する画素の纏まりによって複数の領域に分類して、領域の範囲が閾値以上の領域に属する画素を、マーカを示す画素として特定する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
マーカが埋め込まれた被写体へ放射線を照射してデジタル生成された放射線透視画像中の前記マーカを検出する放射線治療装置制御装置であって、 前記放射線透視画像中における、ある画素の輝度と、当該ある画素を通る所定方向の直線上に位置し、当該ある画素から所定距離に位置する対向する2つの画素の各輝度と、の輝度差のうちの何れか一方の輝度差を、前記ある画素を通る複数の異なる方向について算出し、そのうちの最も大きい輝度差の情報を当該ある画素について特定して、当該輝度差の情報を前記放射線透視画像中の複数の画素について保持した画素毎輝度差情報を作成するマーカエッジ強調部と、 前記画素毎輝度差情報において前記輝度差が所定の閾値以上の画素のうちノイズと判定される画素を除去してマーカ候補となる画素を特定するノイズ除去部と、 前記マーカ候補となる画素について、隣接する画素の纏まりによって複数の領域に分類して、領域の範囲が閾値以上の領域に属する画素を、マーカを示す画素として特定するマーカ特定部と、 を備えることを特徴とする放射線治療装置制御装置。
IPC (3件):
A61N 5/10 ,  A61B 6/12 ,  A61B 6/00
FI (4件):
A61N5/10 M ,  A61B6/12 ,  A61B6/00 350D ,  A61B6/00 370
Fターム (12件):
4C082AC02 ,  4C082AE01 ,  4C082AJ06 ,  4C082AJ10 ,  4C082AP07 ,  4C093AA01 ,  4C093FD02 ,  4C093FD09 ,  4C093FF08 ,  4C093FF09 ,  4C093FF22 ,  4C093GA01
引用特許:
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る