特許
J-GLOBAL ID：201203051785460027

塩素系揮発性有機化合物の浄化方法

発明者：
水口 仁

水口 仁 について

, 
平松 裕貴

平松 裕貴 について

, 
島 英樹

島 英樹 について


出願人/特許権者：
国立大学法人横浜国立大学

国立大学法人横浜国立大学 について


代理人 (1件)： アクシス国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-076576
公開番号（公開出願番号）：特開2012-210247
出願日： 2011年03月30日
公開日（公表日）： 2012年11月01日
要約：
【課題】HClの発生及び触媒の被毒を良好に抑制して、塩素系揮発性有機化合物をほぼ完全に除去する塩素系揮発性有機化合物の浄化方法を提供する。【解決手段】塩素系揮発性有機化合物を含有する気体に、酸素の存在下、350°C未満に加熱された半導体を熱励起状態として接触させることによって前記有機化合物を酸化分解除去することを特徴とする塩素系揮発性有機化合物の浄化方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
塩素系揮発性有機化合物を含有する気体に、酸素の存在下、350°C未満に加熱された半導体を熱励起状態として接触させることによって前記有機化合物を酸化分解除去することを特徴とする塩素系揮発性有機化合物の浄化方法。
IPC (6件)：
A62D 3/38 ,  B01J 23/26 ,  B01J 23/745 ,  B01J 23/755 ,  B01J 21/06 ,  B01D 53/86
FI (6件)：
A62D3/38 ,  B01J23/26 A ,  B01J23/74 301A ,  B01J23/74 321A ,  B01J21/06 A ,  B01D53/36 G
Fターム (34件)：
4D048AA11 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA10X ,  4D048BA25X ,  4D048BA36X ,  4D048BA38X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BC01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA13B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC58A ,  4G169BC58B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169CA02 ,  4G169CA07 ,  4G169CA10 ,  4G169CA19 ,  4G169DA06 ,  4G169EA18 ,  4G169EC02Y ,  4G169EC03Y ,  4G169EC22Y ,  4G169ED07
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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