特許
J-GLOBAL ID：201203058229000020
多重周波数プラズマ・エッチング反応装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-178401
公開番号（公開出願番号）：特開2012-015534
出願日： 2011年08月17日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：
【課題】プラズマの化学的性質、密度、イオン・エネルギー、及びそれらの2つ以上のパラメータを正確に制御する装置を提供することである。【解決手段】3以上の周波数52,54,56でプラズマを励起し、それによって、その前記3以上の周波数によるプラズマの励起がプラズマ中でいくつかの異なる現象を同時に発生させることにより、加工物18が真空プラズマ処理チャンバ10内のプラズマで処理される。装置は、チャンバ10、RFて電力供給51、またはプラズマ励起周波数のうちの少なくとも1つを他の周波数を除外して通過させるフィルタ構成67、それに依って、て基準電位に接続される中央の頂部電極14および底部電極13ならびに周辺の頂部42および/または底部電極34、を含む構成である。前記装置で前記プラズマ処理を実施することで課題を解決する事が出来る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ワークピースの下側に底部電極を有する真空プラズマ処理チャンバ内で加工物をプラズマで処理する方法であって、底部電極に3つ以上の周波数の電気エネルギーを供給することによる該3つ以上の周波数の電気エネルギーで前記プラズマを励起するステップと、前記プラズマがその間で励起される前記チャンバ内の1対の電極間の間隔を変更するステップとを有し、該3つ以上の周波数によるプラズマの励起がプラズマ内にいくつかの異なる現象を同時に発生させ、該いくつかの現象はプラズマイオンエネルギー、プラズマイオン密度、及びプラズマ化学に影響を及ぼすものである。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/302 101B
, H05H1/46 M
, H05H1/46 R
5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BB18
, 5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F004CA03
, 5F004CA06
