特許
J-GLOBAL ID:201203068017039681
表面特性測定装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
池田 憲保
, 福田 修一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-545802
公開番号(公開出願番号):特表2012-515341
出願日: 2010年01月15日
公開日(公表日): 2012年07月05日
要約:
波長選択器5が広帯域光源4の波長を選択する。光導波器BS1、BS2が、波長選択器からの光を測定経路に沿ってサンプル表面の領域に向けて誘導すると共に基準経路に沿って基準表面に向けて誘導し、サンプル表面の領域によって反射された光及び基準表面によって反射された光が干渉してインターフェログラムを生成するようにしている。コントローラ20が、波長選択器を制御して、波長選択器によって選択される波長を変更する。記録器63が、連続した画像を記録し、各画像は、波長選択器によって選択された波長のそれぞれ1つによって生成されたインターフェログラムを表す。データプロセッサ18、180が、記録された画像を処理して、サンプル表面の少なくとも一部の表面プロファイル及び表面高マップのうちの少なくとも一方を作成する。基準経路を制御して、振動、熱的効果及び乱流のような環境影響を補償することができる。データプロセッサは、グラフィックス処理装置を用いて、ピクセルデータを並列に処理することを可能にすることができる。
請求項(抜粋):
サンプル表面に関する情報を測定するための装置であって、
広帯域光源の波長を選択する波長選択器と、
前記波長選択器からの光を、測定経路に沿ってサンプル表面の領域に向けて誘導するとともに基準経路に沿って基準表面に向けて誘導する光導波器であって、前記サンプル表面の前記領域によって反射された光及び前記基準表面によって反射された光が干渉してインターフェログラムを生成するようにする光導波器と、
前記波長選択器を制御して、前記波長選択器によって選択される前記波長を変更するコントローラと、
各画像が前記波長選択器によって選択された前記波長のそれぞれ1つによって生成された前記インターフェログラムを表す、連続画像を記録する記録器と、
前記記録器によって記録された前記画像を処理して、前記サンプル表面の少なくとも一部の表面プロファイル及び表面高マップのうちの少なくとも一方を作成するデータプロセッサと、
を備える装置。
IPC (4件):
G01B 9/02
, G01B 11/24
, G01N 21/45
, G01N 21/27
FI (4件):
G01B9/02
, G01B11/24 D
, G01N21/45
, G01N21/27 A
Fターム (75件):
2F064AA09
, 2F064DD02
, 2F064DD04
, 2F064DD05
, 2F064EE01
, 2F064EE10
, 2F064FF02
, 2F064FF03
, 2F064FF07
, 2F064FF08
, 2F064GG02
, 2F064GG12
, 2F064GG20
, 2F064GG22
, 2F064GG24
, 2F064GG40
, 2F064GG41
, 2F064GG42
, 2F064GG44
, 2F064GG52
, 2F064GG53
, 2F064GG55
, 2F064GG68
, 2F064GG70
, 2F064HH01
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
, 2F064JJ06
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065DD11
, 2F065FF04
, 2F065FF52
, 2F065GG02
, 2F065GG06
, 2F065GG24
, 2F065GG25
, 2F065JJ01
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL02
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL20
, 2F065LL22
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2F065LL53
, 2F065LL57
, 2F065LL62
, 2F065MM02
, 2F065NN06
, 2F065PP12
, 2F065QQ16
, 2F065QQ31
, 2G059BB15
, 2G059BB16
, 2G059EE09
, 2G059EE11
, 2G059GG01
, 2G059GG09
, 2G059HH02
, 2G059JJ01
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059JJ18
, 2G059JJ22
, 2G059KK02
, 2G059KK03
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059NN02
, 2G059NN03
引用特許:
審査官引用 (7件)
-
形状測定方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-350321
出願人:セイコーエプソン株式会社
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干渉顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-244724
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
空間光変調器を使用する回折ヌルコレクタ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-257699
出願人:エーエスエムエルホールディングエヌ.ブイ.
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