特許

J-GLOBAL ID：201203070072141759

感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物

発明者： 佐藤 光央
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (7件)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  奥谷 優 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  森田 慶子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-007004
公開番号（公開出願番号）：特開2012-150170
出願日： 2011年01月17日
公開日（公表日）： 2012年08月09日
要約：

【課題】パターン形成性、MEEF性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。【解決手段】式(1)を有する重合体及び酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

[A]下記式(1)で表される基RSを含む構造単位(I)を有する重合体、及び [B]感放射線性酸発生体 を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 20/38 ,  H01L 21/027 ,  C07D 333/48 ,  C07D 335/02

FI (6件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C08F20/38 ,  H01L21/30 502R ,  C07D333/48 ,  C07D335/02

Fターム (37件)：

2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ70X ,  2H125AJ92Y ,  2H125AL03 ,  2H125AL22 ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C023JA06 ,  4J100AL08P ,  4J100AR11P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BC04P ,  4J100BC83P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 深紫外線(DEEPUV)用のフォトレジスト組成物及びその方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-542163   出願人：エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
• 感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-156962   出願人：株式会社東芝
• ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-058736   出願人：東京応化工業株式会社
• 新規なアクリル酸エステル誘導体、およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-041011   出願人：株式会社クラレ