特許
J-GLOBAL ID：200903060176466128

深紫外線(DEEPUV)用のフォトレジスト組成物及びその方法

発明者：
ホウリハン・フランシス・エム

ホウリハン・フランシス・エム について

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ダメル・ラルフ・アール

ダメル・ラルフ・アール について

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ロマーノ・アンドリュー・アール

ロマーノ・アンドリュー・アール について

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パドマナバン・ムニラトナ

パドマナバン・ムニラトナ について

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ラーマン・ダリル・エム

ラーマン・ダリル・エム について


出願人/特許権者：
エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション

エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション について


代理人 (3件)： 江崎 光史 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-542163
公開番号（公開出願番号）：特表2008-521039
出願日： 2005年11月21日
公開日（公表日）： 2008年06月19日
要約：
本発明は、a) 酸不安定性基で保護された少なくとも一種の酸性構造要素を含みかつ水性アルカリ性溶液中に不溶性の、ポリマー主鎖から伸びるスルホン側基を含む新規ポリマー、及びb) 露光時に酸を生成することができる化合物を含む、300nm〜100nmの範囲の波長に感度を示す新規の化学増幅型フォトレジストに関する。また本発明は、該新規ポジ型フォトレジスト組成物に像を形成する方法にも関する。
請求項（抜粋）：
光酸発生剤と、以下の構造式1で表される少なくとも一種の単位を含むポリマーとを含むフォトレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/38 ,  C08F 20/38 ,  C08F 28/02 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/11 503 ,  G03F7/38 501 ,  C08F20/38 ,  C08F28/02 ,  H01L21/30 502R
Fターム (31件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025DA34 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  4J100AL08P ,  4J100AP01P ,  4J100BC83P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (7件)
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