特許
J-GLOBAL ID：201203070234203192

真空蒸着装置及び薄膜の製造方法

発明者：
楊 一新

楊 一新 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (2件)： 石島 茂男 ,  阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-277573
公開番号（公開出願番号）：特開2012-127711
出願日： 2010年12月14日
公開日（公表日）： 2012年07月05日
要約：
【課題】真空槽内の真空雰囲気を維持しながら振動子から付着膜を除去できる真空蒸着装置及び薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 真空排気された真空槽11内に蒸着材料の蒸気を放出させ、ホルダ32a、32bに接触して保持された振動子31a、31bの表面に蒸気を付着させ、付着膜の膜厚を測定しながら、基板16に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、付着膜の蒸発温度より融点の高い振動子31a、31bとホルダ32a、32bと、ホルダ加熱装置33a、33bとを用いて、真空槽11内の真空雰囲気を維持しながら、ホルダ32a、32bの融点と振動子31a、31bの融点の両方より低い温度でかつ付着膜の蒸発温度以上の温度にホルダ32a、32bを加熱し、ホルダ32a、32bからの熱伝導により振動子31a、31bを加熱し、振動子31a、31bから付着膜を気化させて除去する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空槽と、 前記真空槽内を真空排気する真空排気装置と、 前記真空槽内に露出する放出口から蒸着材料の蒸気を放出する放出装置と、 前記放出口と対面する位置に基板を保持する基板保持部と、 前記真空槽内に配置され、表面に付着した付着膜の膜厚を測定できる振動子と、 前記振動子を前記振動子の表面を露出させた状態で、前記振動子と接触して保持するホルダと、 を有し、前記基板保持部に保持された前記基板に薄膜を形成する真空蒸着装置であって、 前記振動子の融点と前記ホルダの融点はどちらも前記付着膜の蒸発温度より高くされ、 前記ホルダの融点と前記振動子の融点の両方より低い温度でかつ前記付着膜の蒸発温度以上の温度に前記ホルダを加熱するホルダ加熱装置を有する真空蒸着装置。
IPC (5件)：
G01B 17/02 ,  C23C 14/24 ,  C23C 14/52 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (5件)：
G01B17/02 A ,  C23C14/24 U ,  C23C14/52 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (26件)：
2F068AA28 ,  2F068BB29 ,  2F068DD12 ,  2F068FF23 ,  2F068JJ11 ,  2F068KK04 ,  2F068KK10 ,  2F068KK11 ,  2F068LL03 ,  2F068LL12 ,  3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DA03 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029EA01 ,  4K029JA02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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