計測装置、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法。

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-073415
公開番号（公開出願番号）：特開2012-209401
出願日： 2011年03月29日
公開日（公表日）： 2012年10月25日
要約：

【課題】ステージの位置を高精度に計測するために有用な技術を提供する。【解決手段】被測定物の位置を計測する計測装置は、前記被測定物に向けて光を射出し、前記被測定物で反射した光を検出する干渉計と、前記干渉計から射出された光と前記被測定物で反射した光の光路へ気体を吹き出す気体吹き出し部と、第1部材および第2部材を含み、前記光路が前記第1部材と前記第2部材の間にあり、前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記被測定物に向けて整流する構造体と、を備える。前記第1部材は、前記被測定物に取り付けられ、前記第2部材は、前記被測定物との間に隙間ができるように配置されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被測定物で反射した光を検出することで被測定物の位置を計測する計測装置であって、前記被測定物に向けて光を射出し、前記被測定物で反射した光を検出する干渉計と、前記干渉計から射出された光と前記被測定物で反射した光の光路へ気体を吹き出す気体吹き出し部と、第1部材および第2部材を含み、前記光路が前記第1部材と前記第2部材の間にあり、前記気体吹き出し部により吹き出される気体を前記被測定物に向けて整流する構造体と、を備え、前記第1部材は、前記被測定物に取り付けられ、前記第2部材は、前記被測定物との間に隙間ができるように配置されていることを特徴とする計測装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 516F , H01L21/30 503B

Fターム (4件)：

5F046CC16 , 5F046DA27 , 5F146CC16 , 5F146DA27

引用特許：

出願人引用 (5件)

ステージの位置計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-079594 出願人：株式会社ニコン
XYステージ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-085648 出願人：アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
ステージ位置計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-256087 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (5件)

ステージの位置計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-079594 出願人：株式会社ニコン
XYステージ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-085648 出願人：アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
ステージ位置計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-256087 出願人：株式会社ニコン

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