特許
J-GLOBAL ID：201203079054424724
フォトマスク用基板
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-164673
公開番号（公開出願番号）：特開2012-027176
出願日： 2010年07月22日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：
【課題】フォトマスク用基板は大型化・重量化するなか、基板表面に存在するパーティクルの量をより低減化し、又、ハンドリング性が良い基板を提供する。【解決手段】液晶ディスプレイ製造に使用されるフォトマスク用基板であって、当該基板の側面部8を構成する端面2、及び2面の面取り面3の表面粗さRaを0.03μm以下とし、且つ、端面2と面取り面3及び基板面1と面取り面3とで構成される稜線部に円形の曲面Rが形成されていないことを特徴とするフォトマスク用基板を提供する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
液晶ディスプレイ製造に使用されるフォトマスク用基板であって、当該基板の側面部を構成する端面、及び2面の面取り面の3面の表面粗さRaを0.03μm以下とし、且つ、端面と面取り面及び基板面と面取り面とで構成される稜線部に円形の曲面Rが形成されていないことを特徴とするフォトマスク用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
2H095BC28
, 4G059AA08
, 4G059AC03
