マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤村康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-236345
公開番号（公開出願番号）：特開2007-052162
出願日： 2005年08月17日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：

【課題】マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の表面にレーザ光を照射させ、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成するマーキング工程を備えるマスクブランク用ガラス基板の製造方法において、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れに伴う諸問題を解消する。【解決手段】前記マーキング工程おけるレーザ照射中に、レーザ照射光周辺の雰囲気を介してレーザ照射部及びその周辺部に供給される物質であって、かつ、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れを生じさせる原因物質を、レーザ照射部及びその周辺部から排除した状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備える。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の表面にレーザ光を照射させて、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成するマーキング工程を備えるマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、前記マーキング工程おけるレーザ照射中に、レーザ照射光周辺の雰囲気を介してレーザ照射部及びその周辺部に供給される物質であって、かつ、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する微細な表面荒れを生じさせる原因物質を、レーザ照射部及びその周辺部から排除した状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備えることを特徴とするマスクブランク用ガラス基板の製造方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 , B23K 26/00 , B23K 26/14 , C03C 23/00

FI (5件)：

G03F1/08 R , B23K26/00 B , B23K26/00 G , B23K26/14 Z , C03C23/00 D

Fターム (12件)：

2H095BC26 , 2H095BE04 , 2H095BE09 , 2H095BE10 , 4E068AB00 , 4E068CG00 , 4E068CH08 , 4E068CJ01 , 4E068DB13 , 4G059AA08 , 4G059AB07 , 4G059AC01

引用特許：

出願人引用 (3件)

エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-311218 出願人：大日本印刷株式会社
特開昭59-15938号公報
特願2005-096976号

審査官引用 (7件)

エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-311218 出願人：大日本印刷株式会社
レーザエッチング方法及びレーザエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-360613 出願人：キヤノン株式会社
カラーフィルタ付ガラス基板のマーキング方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-008374 出願人：科学技術振興事業団, 株式会社安川電機

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