特許
J-GLOBAL ID：201203087053693171

光応答性高分子、当該光応答性高分子が形成されてなる成形物およびその利用

発明者：
宮田 隆志

宮田 隆志 について

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浦上 忠

浦上 忠 について

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小嶋 友里

小嶋 友里 について


出願人/特許権者：
学校法人 関西大学

学校法人 関西大学 について


代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-002989
公開番号（公開出願番号）：特開2012-144610
出願日： 2011年01月11日
公開日（公表日）： 2012年08月02日
要約：
【課題】鋳型を必要とせず、微細パターンの形成を3次元的に行うことを可能とする光応答性高分子を提供する。【解決手段】本発明に係る光応答性高分子は、光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少するものである。上記光応答基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることが好ましく、上記二量化基としては、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基などが例示される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、 光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少することを特徴とする光応答性高分子。
IPC (6件)：
C08F 216/18 ,  G03H 1/02 ,  C08G 85/00 ,  C08F 299/00 ,  G11B 7/244 ,  G11B 7/24
FI (6件)：
C08F216/18 ,  G03H1/02 ,  C08G85/00 ,  C08F299/00 ,  G11B7/24 516 ,  G11B7/24 522A
Fターム (40件)：
2K008BB03 ,  2K008DD14 ,  2K008FF11 ,  4J031AA12 ,  4J031AA15 ,  4J031AA29 ,  4J031AA56 ,  4J031AA59 ,  4J031AB01 ,  4J031AC01 ,  4J031AF21 ,  4J100AL08Q ,  4J100AL75P ,  4J100BA72Q ,  4J100BA81Q ,  4J100BC43P ,  4J100CA04 ,  4J100DA61 ,  4J100JA32 ,  4J127AA03 ,  4J127AA04 ,  4J127BB041 ,  4J127BB081 ,  4J127BB181 ,  4J127BC031 ,  4J127BC151 ,  4J127BD101 ,  4J127BE09Y ,  4J127BE091 ,  4J127BE59Y ,  4J127BE591 ,  4J127BG05Y ,  4J127BG051 ,  4J127BG38Y ,  4J127BG381 ,  4J127CA01 ,  4J127FA21 ,  5D029JA04 ,  5D029JB50 ,  5D029VA08
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (13件)
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