特許
J-GLOBAL ID：201203091370840322
検査装置及び欠陥検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大山 健次郎
, 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-035751
公開番号（公開出願番号）：特開2012-174896
出願日： 2011年02月22日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：
【課題】炭化珪素基板又は炭化珪素基板に形成されたエピタキシャル層に存在する欠陥を検出し、検出された欠陥を分類する検査装置を実現する。【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む走査装置を用いて、炭化珪素基板の表面又はエピタキシャル層の表面を走査する。炭化珪素基板からの反射光はリニアイメージセンサ(23)により受光され、その出力信号は信号処理装置(11)に供給する。信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する2次元画像生成手段(32)を有する。基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段(34)に供給されて欠陥が検出される。検出された欠陥の画像は、欠陥分類手段(36)に供給され、欠陥画像の形状及び輝度分布に基づいて欠陥が分類される。欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第1の分類手段(50)と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第2の分類手段(51)とを有する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
炭化珪素基板又は炭化珪素基板上に形成されたエピタキシャル層について欠陥検査を行う検査装置であって、
照明ビームを発生する光源装置と、検査すべき炭化珪素基板を支持すると共に第1の方向及び第1の方向と直交する第2の方向に移動可能なステージと、前記照明ビームを、ステージ上に配置した炭化珪素基板に向けて投射する対物レンズと、前記光源装置と対物レンズとの間の光路中に配置され、入射した照明ビームを、互いに干渉性を有する第1及び第2のサブビームに変換すると共に、前記炭化珪素基板又はエピタキシャル層の表面で反射したサブビーム同士を合成し、炭化珪素基板又はエピタキシャル層の表面高さと関連する位相差情報を含む干渉ビームを出射させる微分干渉光学系と、微分干渉光学系から出射した干渉ビームを受光する撮像素子とを有する光学装置、及び
前記撮像素子からの出力信号を受け取り、前記炭化珪素基板又はエピタキシャル層表面の微分干渉画像を形成する画像形成手段と、形成された微分干渉画像に基づいて欠陥検出を行う欠陥検出手段と、検出された欠陥の微分干渉画像に基づき検出された欠陥を分類する欠陥分類手段とを有する信号処理装置を具えることを特徴とする検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/66 N
, G01N21/956 A
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB03
, 2G051AB06
, 2G051AB07
, 2G051AC21
, 2G051BA10
, 2G051BA11
, 2G051BB17
, 2G051BC06
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051CD03
, 2G051DA07
, 2G051EA11
, 2G051EA16
, 2G051EC01
, 4M106AA01
, 4M106AA10
, 4M106BA06
, 4M106BA07
, 4M106CA38
, 4M106CB19
, 4M106DA15
, 4M106DH12
, 4M106DH31
, 4M106DH39
, 4M106DJ04
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
