特許
J-GLOBAL ID：201203094041257020

研磨用組成物

発明者：
芦高 圭史

芦高 圭史 について

, 
森永 均

森永 均 について

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安井 晃仁

安井 晃仁 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-079850
公開番号（公開出願番号）：特開2012-104800
出願日： 2011年03月31日
公開日（公表日）： 2012年05月31日
要約：
【課題】高い研磨速度を実現することの可能なコロイダルシリカ粒子を含有した研磨用組成物を提供する。【解決手段】本発明の研磨用組成物は、複数の突起を表面に有するコロイダルシリカ粒子を含有する。研磨用組成物中のコロイダルシリカ粒子のうちコロイダルシリカ粒子の体積平均粒子径よりも粒子径の大きな粒子が表面に有している突起の高さをそれぞれ同じ突起の基部における幅で除することにより得られる値の平均は0.245以上である。コロイダルシリカ粒子のうちコロイダルシリカ粒子の体積平均粒子径よりも粒子径の大きな粒子の平均アスペクト比は、1.15以上であることが好ましい。コロイダルシリカ粒子のうちコロイダルシリカ粒子の体積平均粒子径よりも粒子径の大きな粒子が表面に有している突起の平均高さは、3.5nm以上であることが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の突起を表面に有するコロイダルシリカ粒子を含有した研磨用組成物であって、前記コロイダルシリカ粒子のうちコロイダルシリカ粒子の体積平均粒子径よりも粒子径の大きな粒子が表面に有している突起の高さをそれぞれ同じ突起の基部における幅で除することにより得られる値の平均が0.245以上であることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14
FI (3件)：
H01L21/304 622B ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D
Fターム (14件)：
3C058AA07 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  5F057AA14 ,  5F057AA27 ,  5F057BA11 ,  5F057BB03 ,  5F057DA01 ,  5F057EA01 ,  5F057EA07 ,  5F057EA18 ,  5F057EA40
引用特許：
審査官引用 (4件)
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