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J-GLOBAL ID:201302253050066150   整理番号:13A0794484

14nm及びそれを超えて,非晶質金属ゲートを用いたFinFETのVt及びGm可変性の抑制

Suppressing Vt and Gm Variability of FinFETs Using Amorphous Metal Gates for 14nm and Beyond
著者 (12件):
資料名:
巻: 2012  ページ: 175-178  発行年: 2012年 
JST資料番号: C0829B  ISSN: 0163-1918  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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無ドープチャネルのFinFETに非晶質TaSiN金属ゲートを導入し,閾値電圧可変性(ΔVt)に及ぼす仕事関数変動の影響を抑制した。界面トラップ密度を測定し,その寄与を,測定ΔVtから切り離した。相互コンダクタンス可変性(ΔGm)も,14nm技術における深刻なオン電流可変性を引き起こすと予想されたため,ΔGmに及ぼす仕事関数変動抑制の影響を調べた。TaSiN-4%ゲートは,他結晶TiNゲートに較べてΔVtの抑制に成功し,金属ゲートFinFETに関する1.34mVμmの記録的な最小AVt値を示した。
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