文献

J-GLOBAL ID：201302275266079978   整理番号：13A1657214

光ナノインプリント用含フッ素UV硬化樹脂(NIF)の特性向上

Advanced Fluorinated UV-Curable Resin for UV Nanoimprint

著者 (2件)： 川口泰秀 (AGCアメリカ) ,  岡田伸治 (旭硝子)
資料名： 旭硝子研究報告  (Research Report of Asahi Glass Co., Ltd.)
巻： 63  ページ： 17-21  発行年： 2013年09月24日 
JST資料番号： F0002A  ISSN： 0004-4210  CODEN： AGKHAD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 最近ナノインプリント技術は微細加工の効果的なプロセスとして認知されつつあり,LED用途,光学素子,バイオ関係などの分野で量産技術として現実味を帯びてきた。その中で離型性の良い光ナノインプリント用の含フッ素UV硬化樹脂「NIF」を開発してきた。このNIFの用途はレジスト用途,永久膜用途,レプリカモールド用途の3つの用途がある。今回はその中から,レジスト用途では特にLED用サファイア基板への微細加工のためのプロセスとしてナノインプリントの検討が進んでおり,それに用いるためのレジストの開発,具体的には塗膜保持性,エッチング耐性向上,プライマーレス化について報告する。またもう一つの用途である半導体など向けのインクジェット塗布用のレジスト開発についても進捗状況を報告する。永久膜用途では高透明性の材料開発の報告,レプリカモールドでは離型性を更に向上させるプロセスなどについて報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： パターン転写 ,  *フッ素化重合体 ,  *光重合型樹脂 ,  紫外線照射 ,  *フォトレジスト ,  微細加工 ,  塗膜形成能 ,  エッチング ,  耐化学性 ,  プライマ【塗装】 ,  インクジェット印刷 ,  透明材料 ,  技術開発 ,  用途開発 ,  型 ,  *押付成形 ,  *リソグラフィー ,  光架橋
準シソーラス用語： 離型性 ,  サファイア基板 ,  レプリカモルド

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  ハロゲン含有重合体  (YH07100Z)

引用文献 (11件)：

• J. Haisma et al., J.Vac. Sci & Technol. B14, 4124 (1996)
• M. Colburm et al., Proc. Int. Soc. Opt. Eng. 3676, 379 (1999)
• H. Hiroshima et al., Jpn. J. Appl.Phys. 41, 4173 (2002)
• Y. Kurashima et al., Jpn. J. Appl. Phys. 43, 4045 (2004)
• Y. Kawaguchi et al., Microelectron. Eng., 84, 973 (2007)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光ナノインプリント ,  フッ素 ,  UV硬化樹脂