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J-GLOBAL ID：200902254617190870   整理番号：04A0543856

フォトナノインプリント用低ライン端粗さのモールド製作

Fabrication of Low Line Edge Roughness Mold for Photo-Nanoimprint

著者 (9件)： KURASHIMA Y (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA H (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  KOMURO M (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  KIM S H (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  YAMAZAKI N (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  TANIGUCHI J (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  MIYAMOTO I (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  NAMATSU H (NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN) ,  MATSUI S (Himeji Inst. of Technol., Hyogo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43  号： 6B  ページ： 4045-4049  発行年： 2004年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 臨界寸法(CD)の原子間力顕微鏡(AFM)を評価するために,...

シソーラス用語： *リソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (10件)：

• 1) M. Nagase, H. Namatsu, K. Kurihara, K. Iwadate and K. Murase: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 3382.
• 2) T. Yamaguchi, K. Yamazaki, M. Nagase and H. Namatsu: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3755.
• 3) A. Yamaguchi and O. Komuro: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3763.
• 4) G. P. Patsis, V. Constantoudis, A. Tserepi and E. Gogolides: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>21</B> (2003) 1008.
• 5) V. Constantoudis, G. P. Patsis, A. Tserepi and E. Gogolides: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>21</B> (2003) 1019.

タイトルに関連する用語 (5件)： フォト ,  ナノインプリント ,  粗さ ,  モールド ,  製作