文献

J-GLOBAL ID：201302289855342825   整理番号：13A1016476

金属アシスト化学エッチングにより作製したシリコンナノワイヤアレイの光学的評価

Optical assessment of silicon nanowire arrays fabricated by metal-assisted chemical etching

著者 (10件)： KATO Shinya (Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN) ,  KUROKAWA Yasuyoshi (Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN) ,  KUROKAWA Yasuyoshi (PRESTO, Japan Sci. and Technol. Agency (JST), 332-0012, Honcho, Kawaguchi, Saitama, JPN) ,  WATANABE Yuya (Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN) ,  YAMADA Yasuharu (Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN) ,  YAMADA Akira (Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN) ,  YAMADA Akira (Tokyo Inst. of Technol., Photovoltaics Res. Center (PVREC), 152-8552, Tokyo, JPN) ,  OHTA Yoshimi (Nissan Res. Center, Advanced Materials Lab., 237-8523, Kanagawa, Yokosuka, JPN) ,  NIWA Yusuke (Nissan Res. Center, Advanced Materials Lab., 237-8523, Kanagawa, Yokosuka, JPN) ,  HIROTA Masaki (Nissan Res. Center, Advanced Materials Lab., 237-8523, Kanagawa, Yokosuka, JPN)
資料名： Nanoscale Research Letters (Web)  (Nanoscale Research Letters (Web))
巻： 8  号： 1  ページ： 1-6  発行年： 2013年12月 
JST資料番号： U7001A  ISSN： 1931-7573  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンナノワイヤ(SiNW)アレイを,金属アシスト化学エッチングによってシリコン基板上に作製し,それを基板から剥離して,その光学特性を測定した。SiNWアレイの吸収係数が全(波長)領域にわたってバルクシリコンのそれよりも高かった。10μmの長いナノワイヤーからなるSiNWアレイの吸収係数は10μmの厚さの平坦なSiウェハの理論的な吸収率よりもはるかに高く,SiNWアレイが強い光閉じ込め効果を示すことを示唆している。SiNWアレイによって示されたこの強い光閉じ込めの理由を明らかにするために,その透過率の角度分布関数を実験的に決定した。その結果は,ミー関連散乱がこのSiNWアレイの強い光閉じ込めに重要な役割を果たしていることを示唆している。Copyright 2013 Kato et al.; licensee Springer. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *エッチング ,  *ケイ素 ,  *ナノワイヤ ,  半導体薄膜 ,  基板 ,  *吸収係数 ,  *配列 ,  *閉込め ,  透過率 ,  角度依存性 ,  Mie散乱
準シソーラス用語： 金属アシスト化学エッチング ,  光閉込め

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： アシスト ,  化学エッチング ,  作製 ,  シリコン ,  ナノワイヤアレイ ,  光学的評価