特許
J-GLOBAL ID：201303001753529580

傾斜構造体、傾斜構造体の製造方法、及び分光センサー

発明者：
吉澤 隆彦

吉澤 隆彦 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (4件)： 柳瀬 睦肇 ,  宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  保坂 延寿
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-179646
公開番号（公開出願番号）：特開2013-040896
出願日： 2011年08月19日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：
【課題】微小な傾斜構造体を製造する。【解決手段】基板の上方に犠牲膜を形成する工程(a)と、第1の膜であって、基板に接続された第1の部分と、犠牲膜の上方に位置する第2の部分と、第1の部分及び第2の部分の間に位置する第3の部分と、を含み、且つ、第3の部分の一部、又は、第2の部分と第3の部分との境界部分に、第1の部分より膜厚が薄い領域を有する第1の膜を形成する工程(b)と、犠牲膜を除去する工程(c)と、工程(c)の後に、膜厚が薄い領域において第1の膜を曲げて、第1の膜の第2の部分を基板に対して傾斜させる工程(d)と、を含む。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板の上方に犠牲膜を形成する工程(a)と、 第1の膜であって、前記基板に接続された第1の部分と、前記犠牲膜の上方に位置する第2の部分と、前記第1の部分及び前記第2の部分の間に位置する第3の部分と、を含み、且つ、前記第3の部分の一部、又は、前記第2の部分と前記第3の部分との境界部分に、前記第1の部分より膜厚が薄い領域を有する前記第1の膜を形成する工程(b)と、 前記犠牲膜を除去する工程(c)と、 前記工程(c)の後に、前記膜厚が薄い領域において前記第1の膜を曲げて、前記第1の膜の前記第2の部分を前記基板に対して傾斜させる工程(d)と、 を含む傾斜構造体の製造方法。
IPC (3件)：
G01J 3/26 ,  G02B 5/28 ,  G02B 5/26
FI (3件)：
G01J3/26 ,  G02B5/28 ,  G02B5/26
Fターム (19件)：
2G020AA04 ,  2G020BA02 ,  2G020BA20 ,  2G020CA02 ,  2G020CC23 ,  2G020CD06 ,  2G020CD13 ,  2G020CD24 ,  2G020CD34 ,  2H048GA04 ,  2H048GA12 ,  2H048GA32 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2H148GA04 ,  2H148GA12 ,  2H148GA32 ,  2H148GA60 ,  2H148GA61
引用特許：
審査官引用 (5件)
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