特許

J-GLOBAL ID：201303007801704940

ガス分配シャワーヘッドおよび洗浄方法

発明者： 塙 広二 ,  マウン, キャウィン ジェーソン ,  チャン, ファー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-527037
公開番号（公開出願番号）：特表2013-503490
出願日： 2010年08月27日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：

堆積処理中に、材料が基板上だけでなく他のチャンバ構成要素の上にも堆積することがある。MOCVDチャンバでは、これらの構成要素の1つはガス分配シャワーヘッドである。シャワーヘッドは、不活性ガスおよび塩素を含むプラズマで発生させたラジカルでシャワーヘッドをボンバードすることによって洗浄することができる。プラズマを発生させるために、シャワーヘッドを基板支持体に対して負にバイアスするか、またはフローティングさせることができる。シャワーヘッドはステンレス鋼を含み、セラミックコーティングでコーティングすることができる。

請求項（抜粋）：

チャンバ本体と、 前記チャンバ本体内に配置された基板支持体台と、 前記チャンバ本体の外側に配置されて、前記基板支持体の下に位置する複数の加熱ランプと、 前記チャンバ本体から電気的に絶縁され、前記基板支持体台の反対側に配置されたガス分配シャワーヘッドであって、前記基板支持体に対向するセラミックコーティングが上にあるステンレス鋼を含むシャワーヘッド本体を有し、前記シャワーヘッド本体が、その中を通って延びる複数の第1のガス通路および複数の第2のガス通路を有するガス分配シャワーヘッドと、 前記基板支持体と前記シャワーヘッド本体のうちの1つ以上と結合された電力供給装置と、 前記複数の第1のガス通路を通してガスを送出するために前記シャワーヘッド本体に結合された第1のガス供給と、 前記複数の第2のガス通路を通してガスを送出するために前記シャワーヘッド本体に結合された第2のガス供給と を備える装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/44

FI (3件)：

H01L21/205 ,  H01L21/302 101H ,  C23C16/44 J

Fターム (37件)：

4K030CA04 ,  4K030DA06 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030FA10 ,  4K030KA02 ,  4K030KA23 ,  4K030KA30 ,  4K030LA14 ,  5F004AA15 ,  5F004BA03 ,  5F004BB11 ,  5F004BB12 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA05 ,  5F004DA11 ,  5F004DA29 ,  5F045AA04 ,  5F045AA08 ,  5F045AB09 ,  5F045AB14 ,  5F045AC02 ,  5F045AC08 ,  5F045AC12 ,  5F045BB14 ,  5F045BB15 ,  5F045EB06 ,  5F045EE13 ,  5F045EF05 ,  5F045EH01 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK10 ,  5F045EK13 ,  5F045EK14

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 成膜方法及び成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-353562   出願人：鐘淵化学工業株式会社
• 成膜処理装置及び成膜処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-079954   出願人：東京エレクトロン株式会社, テル・エンジニアリング株式会社
• 基板処理装置およびシャワーヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-168861   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 被処理体の処理方法及び処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-156783   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 処理装置及び処理装置のクリーニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-230175   出願人：東京エレクトロン株式会社