特許
J-GLOBAL ID：201303016666150238

光学結像装置

発明者：
クワン イム-ブン パトリック

クワン イム-ブン パトリック について


出願人/特許権者：
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー について


代理人 (2件)： 杉村 憲司 ,  下地 健一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-222394
公開番号（公開出願番号）：特開2013-051424
出願日： 2012年10月04日
公開日（公表日）： 2013年03月14日
要約：
【課題】EUV露光プロセスに使用される、長期にわたって良好かつ信頼性の高い結像特性を有する光学結像装置を提供する。【解決手段】マスクユニット3と、基板ユニット4と、光学素子ユニットのグループを有するパターンの転写に適合された光学投影ユニット2と、光学素子ユニットのうちの1つのコンポーネントである第1結像装置コンポーネントと、第1結像装置コンポーネントとは異なり、且つ、マスクユニット3、光学投影ユニット2、及び基板ユニット4のうちの1つのコンポーネントである第2結像装置コンポーネントと、計測装置10と、を有する光学結像装置が提供されている。計測装置10は、第1結像装置コンポーネントと第2結像装置コンポーネントとの間の空間的な関係をキャプチャしている。計測装置10は、第1結像装置コンポーネントに直接的に機械的に接続されている基準素子10.2を有している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンを受けるべく適合されたマスクユニットと、 基板を受けるべく適合された基板ユニットと、 光学素子ユニットのグループを有する光学投影ユニットであって、前記パターンの画像を前記基板上に転写すべく適合された光学投影ユニットと、 第1の前記光学素子ユニットの1つのコンポーネントである第1結像装置コンポーネントと、 第2結像装置コンポーネントであって、前記第1結像装置コンポーネントとは異なっており、且つ、第2の前記光学素子ユニットの1つのコンポーネントである第2結像装置コンポーネントと、 計測装置であって、 前記第1結像装置コンポーネントと前記第2結像装置コンポーネントとの間の空間的な関係をキャプチャし、 前記第1結像装置コンポーネントに直接的に機械的に接続されている基準構造を有する計測装置と、 を有する光学結像装置であって、 前記計測装置が、前記第1結像装置コンポーネントと前記基準構造との間の第1の空間的な関係をキャプチャし、 前記計測装置が、前記第2結像装置コンポーネントと前記基準構造との間の第2の空間的な関係をキャプチャし、 前記計測装置が、前記第1の空間的な関係及び前記第2の空間的な関係を用いて、前記第1結像装置コンポーネントと前記第2結像装置コンポーネントとの間の前記空間的な関係を決定する、光学結像装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G02B 19/00
FI (3件)：
H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521 ,  G02B19/00
Fターム (9件)：
2H052BA03 ,  2H052BA12 ,  5F146DA12 ,  5F146DB05 ,  5F146DC08 ,  5F146GA03 ,  5F146GA21 ,  5F146GA27 ,  5F146GB15
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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