特許
J-GLOBAL ID:201303016858642363
強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-039582
公開番号(公開出願番号):特開2013-175615
出願日: 2012年02月27日
公開日(公表日): 2013年09月05日
要約:
【課題】MgOバリア以外のトンネルバリア層を用いて従来にはない高いTMR値を達成することと構成元素の組成調整によって格子定数を連続的に変化させることを課題とした。【解決手段】上記課題を解決するために、トンネルバリア層がスピネル構造の原子配列が不規則化し、スピネル構造の半分の格子定数の立方晶構造を有する非磁性物質からなる強磁性トンネル接合を創製した。これらの強磁性トンネル接合を利用した磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイスを提供するものである。【選択図】図4
請求項(抜粋):
スピネル構造の結晶質酸化物のトンネルバリア層を二つの強磁性層で直接挟んだ構造からなる強磁性トンネル接合体であって、前記トンネルバリア層は、スピネル構造を安定相とする結晶質酸化物と構成元素が同じであるがスピネル構造の原子配列が不規則化した結晶構造を持ち、空間群Fm-3mもしくはF-43mの対称性をもつ立方晶の非磁性酸化物からなり、かつ、前記非磁性酸化物の格子定数が、前記スピネル構造を安定相とする結晶質酸化物の格子定数の半分であることを特徴とする強磁性トンネル接合体。
IPC (6件):
H01L 43/10
, H01L 29/82
, H01L 43/08
, H01L 21/824
, H01L 27/105
, G11B 5/39
FI (5件):
H01L43/10
, H01L29/82 Z
, H01L43/08 Z
, H01L27/10 447
, G11B5/39
Fターム (28件):
4M119AA17
, 4M119BB01
, 4M119CC05
, 4M119JJ02
, 4M119JJ09
, 5D034BA05
, 5D034BA15
, 5F092AA02
, 5F092AB02
, 5F092AB06
, 5F092AC12
, 5F092AD25
, 5F092BB05
, 5F092BB09
, 5F092BB10
, 5F092BB12
, 5F092BB22
, 5F092BB23
, 5F092BB24
, 5F092BB34
, 5F092BB35
, 5F092BB42
, 5F092BB43
, 5F092BB44
, 5F092BE13
, 5F092BE21
, 5F092CA15
, 5F092CA25
引用特許:
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